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Als fortgeschrittener SIC -Versiegelungsteil Produkthersteller und Fabrik in China. Vetek Semiconducto SIC-Versiegelungsteil ist eine Hochleistungsversiegelungskomponente, die in der Halbleiterverarbeitung und anderen extrem hohen Temperatur- und Hochdruckprozessen weit verbreitet ist. Begrüßen Sie Ihre weitere Beratung.

Vetek Semiconductor ist ein professioneller Aluminiumoxid -Vakuum -Vakuum -Chuck -Hersteller und Fabrik in China. Aluminiumoxid-Keramik-Vakuum-Chuck verwendet Aluminiumoxid-Keramik mit hoher Purity mit ausgezeichneter Wärmeresistenz, chemischer Resistenz und mechanischer Stärke. Es wird hauptsächlich zur Behebung und Unterstützung von Wafern und Substraten verwendet. Es handelt sich um ein Hochleistungsausrüstung für die Verarbeitung von Halbleiter. Begrüßen Sie Ihre weiteren Anfragen.

Als professioneller Produkthersteller und Lieferant von Hard Composite Carbon Faser Filz in China ist Vetek Semiconductor Hard Composite Carbon Faser Filz ein hochwertiges Material, das für Hochtemperaturanwendungen entwickelt wurde und eine hervorragende Wärmefestigkeit und Isolationsleistung bietet. Dieses Produkt wird in der PECVD -Palette für Kohlenstoff -Kohlenstoffverbundstoff häufig verwendet, um Stabilität und Zuverlässigkeit unter extremen Bedingungen zu gewährleisten. Begrüßen Sie Ihre weitere Beratung.

Als professioneller Innovator und Führer von Tantal Carbid -beschichteten Ringprodukten in China spielt der Vetek -Halbleiter Tantal -Carbid -beschichteter Ring eine unersetzliche Rolle beim SIC -Kristallwachstum mit hervorragender Hochtemperaturbeständigkeit, Verschleißresistenz und hervorragender thermischer Leitfähigkeit. Begrüßen Sie Ihre weitere Beratung.

Als führender Hersteller und Lieferant von Silizium -Carbid -Wafer -Chuck -Produkten in China spielt Vetek Semiconductors Silizium -Carbid -Wafer -Chuck eine unersetzliche Rolle bei der epitaxialen Wachstumsprozess mit seiner hervorragenden hohen Temperaturresistenz, chemischen Korrosionsbeständigkeit und thermischen Schockwiderstand. Begrüßen Sie Ihre weitere Beratung.

Der Silizium -Carbid -Duschkopf hat eine hervorragende Hochtemperaturtoleranz, chemische Stabilität, thermische Leitfähigkeit und gute Gasverteilungsleistung, die eine gleichmäßige Gasverteilung erzielen und die Filmqualität verbessern kann. Daher wird es normalerweise in Hochtemperaturprozessen wie chemische Dampfabscheidung (CVD) oder PVD -Prozesse (Physikalische Dampfablagerung (PVD) verwendet. Begrüßen Sie Ihre weitere Beratung an uns, Vetek Semiconductor.