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Graphit Crucible ist ein wichtiger Bestandteil monokristalliner Ziehkruppen im Prozess der Erzielung monokristalliner Silizium -Ingot -Wachstum. in Leistung, Qualität und Kosteneffizienz, um den sich entwickelnden Bedürfnissen der Branche gerecht zu werden.

Bei Vetek Semiconductor sind die Thermalfelder von Graphit sorgfältig so konzipiert, dass sie den strengen Standards der Photovoltaikindustrie erfüllen, um eine optimale Leistung und Effizienz in verschiedenen Anwendungen zu gewährleisten. Wir sind der Herstellung von Hochleistungs-Graphit-Thermalfeldern gewidmet, die außergewöhnliche Qualität und Kosteneffizienz bieten.

Pull Silicon Single Crystal Jig ist so konzipiert, dass die Reinheit von Wafern und eine präzise Kontrolle der Heißzonen während der Kristallisation sichergestellt wird, was nachhaltige und effiziente Lösungen für die Photovoltaikindustrie bietet.

Das thermische Feld des monokristalen Siliziumofens verwendet Graphit als Tiegel und verwendet Heizung, Führungsring, Klammer und Topfhalter aus isostatisch gepresstem Graphit, um die Festigkeit und Reinheit des Graphit -Schmelztiegels zu gewährleisten. Vetek Semiconductor produziert Tiegel für monokristallines Silizium, langes Leben, hohe Reinheit, willkommen, uns zu konsultieren.

Vetek Semiconductor konzentriert sich auf die Forschung und Entwicklung und Industrialisierung der CVD -SIC -Beschichtung und der CVD -TAC -Beschichtung. Als Beispiel wird das Produkt mit SIC -Beschichtungs -Anfälligkeiten stark mit hoher Präzision, dichtem CVD -SIC -Beschichtung, hoher Temperaturbeständigkeit und starken Korrosionsbeständigkeit verarbeitet. Ihre Anfrage zu uns ist willkommen.

CVD -SIC -Block für das SIC -Kristallwachstum ist ein neuer Rohstoff mit hoher Reinheit, der von Vetek Semiconductor entwickelt wurde. Es verfügt über ein hohes Eingangs-Output-Verhältnis und kann hochwertige, großgröße Silizium-Carbid-Einzelkristalle anbauen. Willkommen, um technische Probleme zu besprechen.