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Siliziumkarbidkeramikbeschichtungsheizung
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Siliziumkarbidkeramikbeschichtungsheizung

Die Silizium -Carbid -Keramikbeschichtungsheizung ist hauptsächlich für die hohe Temperatur und die harte Umgebung der Semiconductor -Herstellung ausgelegt. Sein ultrahoher Schmelzpunkt, eine ausgezeichnete Korrosionsbeständigkeit und die hervorragende thermische Leitfähigkeit bestimmen die Unentbehrlichkeit dieses Produkts im Halbleiterproduktionsprozess.

Es HalbleiterSiliziumkarbid -Keramikbeschichtungsheizung ist eine Heizung, die für hohe Temperaturen und harte Umgebungen ausgelegt ist. Es beschichtet eine Schicht aus Siliziumkohlenstoff -Keramikbeschichtung (sic) auf der Oberfläche des Heizelements, um dem Gerät hervorragende Wärmewiderstand, Korrosionsbeständigkeit und thermische Leitfähigkeit zu verleihen. 

Siliziumkarbidkeramikbeschichtungsheizungwird hauptsächlich in Vakuumbeschichtungsausrüstung (Verdunstung) verwendet. Die häufig verwendeten Methoden sind PCD (Plasma-chemische Trocknung) und PVD (physikalische Dampfabscheidung), die bei der Herstellung von Halbleitern und anderen industriellen Anwendungen mit hoher Nachfrage häufig verwendet werden.


Kombiniert mit dem Hochleistungsbeschichtungsdesign von Siliziumkarbid-Keramikbeschichtungsheizung,Es kann eine hervorragende Heizlösung für Hochtemperaturprozesse bieten.


Ausgezeichnete thermische Leitfähigkeit: SIC -Material hat eine ausgezeichnete thermische Leitfähigkeit, um sicherzustellen, dass die Heizung eine gleichmäßige Wärmeverteilung im Arbeitsbereich erreichen und Temperaturgradienten reduzieren kann.

Eine gleichmäßige Wärmeverteilung liefern: Siliziumkarbid -Keramikbeschichtungsheizung verwendet die hohe thermische Leitfähigkeit von sic -Material, um eine gleichmäßige Temperaturverteilung während des gesamten Heizbereichs zu erreichen. Dies ist von entscheidender Bedeutung, um eine gleichmäßige Wärmebehandlung von Halbleiterwafern in verschiedenen Hochtemperaturprozessen wie schnelle Wärmeverarbeitung (RTP), Diffusion und Oxidation zu gewährleisten, wodurch Produktdefekte vermieden werden, die durch lokale Überhitzung oder ungleichmäßige Temperatur verursacht werden.


Hochtemperaturtoleranz: SIC-Beschichtung ermöglicht es der Heizung, extrem hohe Temperaturen, typischerweise bis zu 1600 ° C, standzuhalten, die für verschiedene Hochtemperaturverarbeitungsprozesse geeignet sind.

Wärmefestigkeit verbessern: Da die Beschichtung extrem hohe Temperaturen standhalten kann, funktioniert sie in Prozessen, die einen langfristigen Hochtemperaturbetrieb erfordern. Beispielsweise kann Siliziumkarbid-Keramik-Beschichtungsheizung bei chemischen Dampfablagerungsverfahren (CVD) -Prozessen den langfristigen stabilen Betrieb der Geräte bei hohen Temperaturen sicherstellen und eine konsistente Heizungsleistung aufrechterhalten, wodurch die Wiederholbarkeit und Zuverlässigkeit der Prozessverfahren verbessert wird.


Chemische Korrosionsresistenz: Die SIC -Beschichtung hat eine extrem hohe Resistenz gegen Säure-, Alkali- und korrosive Gase und kann in einer komplexen chemischen Atmosphäre für eine lange Zeit stabil bleiben, wobei die Lebensdauer der Ausrüstung verlängert wird. 

Verlängerung der Lebensdauer der Ausrüstung: SIC -Beschichtung hat eine ausgezeichnete Oxidationsresistenz und Korrosionsresistenz und kann die chemische Erosion und Oxidation bei hohen Temperaturen wirksam widerstehen. Dies ist im Halbleiterherstellungsprozess sehr wichtig, insbesondere in einer Umgebung, die korrosive Gase und Chemikalien umgeht. Die Schutzwirkung der Beschichtung kann die Lebensdauer der Heizung erheblich verlängern und die Häufigkeit der Ersatz- und Wartungskosten für Geräte verringern.


Grundlegende physikalische Eigenschaften von Siliziumkarbidkeramikbeschichtungsheizung:

CVD SIC COATING FILM CRYSTAL STRUCTURE



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VeTek Semiconductor Production Shop


Überblick über die Vetek Semiconductor Chip Epitaxy Industry -Kette:

Overview of the semiconductor chip epitaxy industry chain


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