ALD -Prozess bedeutet Atomschicht -Epitaxieprozess. Die Hersteller von Semiconductor- und ALD -Systemen haben sic -beschichtete ALD -Planeten anfällig entwickelt und hergestellt, die den hohen Anforderungen des ALD -Prozesses entsprechen, um den Luftstrom gleichmäßig über das Substrat zu verteilen. Gleichzeitig sorgt unsere CVD -SIC -Beschichtung mit hoher Reinheit in dem Prozess Reinheit. Willkommen, um die Zusammenarbeit mit uns zu besprechen.
Vetek Semiconductors TAC Coated Graphit Susceceptor verwendet eine chemische Dampfabscheidung (CVD), um eine tantale Carbidbeschichtung auf der Oberfläche von Graphitenteilen herzustellen. Dieser Prozess ist am reifsten und hat die besten Beschichtungseigenschaften. Der mit TAC beschichtete Graphit -Anfänger kann die Lebensdauer von Graphitkomponenten verlängern, die Migration von Graphitverunreinigungen hemmen und die Qualität der Epitaxie sicherstellen. Wir freuen uns auf Ihre Anfrage.
Vetek Semiconductor bietet hochmoderne Graphitscheiben-Suszeptoren. Die SiC-Beschichtung bietet hervorragende thermische Stabilität, hervorragende chemische Beständigkeit und verbesserte Prozessgleichmäßigkeit und sorgt so für optimale Leistung und Zuverlässigkeit. Erleben Sie die nächste Stufe der Effizienz und Präzision mit dem SiC-beschichteten Scheibensuszeptor von Vetek Semiconductor.
Graphit Crucible ist ein wichtiger Bestandteil monokristalliner Ziehkruppen im Prozess der Erzielung monokristalliner Silizium -Ingot -Wachstum. in Leistung, Qualität und Kosteneffizienz, um den sich entwickelnden Bedürfnissen der Branche gerecht zu werden.
Bei Vetek Semiconductor sind die Thermalfelder von Graphit sorgfältig so konzipiert, dass sie den strengen Standards der Photovoltaikindustrie erfüllen, um eine optimale Leistung und Effizienz in verschiedenen Anwendungen zu gewährleisten. Wir sind der Herstellung von Hochleistungs-Graphit-Thermalfeldern gewidmet, die außergewöhnliche Qualität und Kosteneffizienz bieten.
Pull Silicon Single Crystal Jig ist so konzipiert, dass die Reinheit von Wafern und eine präzise Kontrolle der Heißzonen während der Kristallisation sichergestellt wird, was nachhaltige und effiziente Lösungen für die Photovoltaikindustrie bietet.
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