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SiC-Keramik-Vakuumspannfutter für Wafer
  • SiC-Keramik-Vakuumspannfutter für WaferSiC-Keramik-Vakuumspannfutter für Wafer

SiC-Keramik-Vakuumspannfutter für Wafer

Veteksemicon SiC-Keramik-Vakuumspannfutter für Wafer wurde entwickelt, um außergewöhnliche Präzision und Zuverlässigkeit bei der Halbleiter-Wafer-Verarbeitung zu bieten. Es wird aus hochreinem Siliziumkarbid hergestellt und gewährleistet eine hervorragende Wärmeleitfähigkeit, chemische Beständigkeit und hervorragende mechanische Festigkeit, wodurch es sich ideal für anspruchsvolle Anwendungen wie Ätzen, Abscheiden und Lithographie eignet. Seine ultraflache Oberfläche garantiert eine stabile Waferunterstützung, minimiert Defekte und verbessert die Prozessausbeute. Dieses Vakuumspannfutter ist die bewährte Wahl für das Hochleistungs-Wafer-Handling.

Das sic-Keramik-Vakuumfutter für Wafer von Veteksemicon ist eine Kernkomponente, die speziell für die Halbleiterfertigung der dritten Generation entwickelt wurde und für die Hochtemperatur- und Hochdruckverarbeitungsumgebungen von Wafern optimiert ist. Hergestellt aus hochreinen Keramikmaterialien, gewährleisten Präzisionsbearbeitung und spezielle Oberflächenbehandlung eine stabile Vakuumhalteleistung und hervorragende thermische Stabilität im anspruchsvollen Halbleiterfertigungsprozess. Unsere Vakuumspannfutter haben sich bei Hunderten von Halbleiterherstellern in der Praxis bewährt und zeigen eine hervorragende Leistung in kritischen Prozessen wie SiC-Epitaxie, Ionenimplantation und Fotolithographie. Sie beheben wirksam Waferverwerfungen und Probleme mit der Positionierungsgenauigkeit, die durch hohe Materialhärte und hohe Prozesstemperaturen verursacht werden.


Allgemeine Produktinformationen

Herkunftsort:
China
Markenname:
Mein Rivale
Modellnummer:
SIC Keramik-Vakuumspannfutter für Wafer-01
Zertifizierung:
ISO9001


Geschäftsbedingungen für Produkte

Mindestbestellmenge:
Vorbehaltlich Verhandlungen
Preis:
Kontakt für individuelle Angebote
Verpackungsdetails:
Standard-Exportpaket
Lieferzeit:
Lieferzeit: 30–45 Tage nach Auftragsbestätigung
Zahlungsbedingungen:
T/T
Lieferfähigkeit:
1000 Einheiten/Monat


Anwendung: Veteksemicon Keramik-Vakuumspannfutter für Wafer besteht aus Hochleistungskeramikmaterialien und ist präzisionsgefertigt, um eine ultraflache Oberfläche und hervorragende thermische Stabilität zu gewährleisten. Es bietet zuverlässige Wafer-Adsorptions- und Temperaturkontrolllösungen für Prozesse wie Epitaxiewachstum, Ionenimplantation und Fotolithographie und verbessert so effektiv die Prozessausbeute und die Produktionseffizienz.

Leistungen, die erbracht werden können: Analyse des Kundenanwendungsszenarios, passende Materialien, technische Problemlösung.

Unternehmensprofil:Veteksemicon verfügt über zwei Labore, ein Expertenteam mit 20 Jahren Materialerfahrung sowie F&E- und Produktions-, Test- und Verifizierungskapazitäten.


Technische Parameter

Parameter
Aluminiumoxidsubstrat
Siliziumkarbid-Substrat
Wärmeleitfähigkeit
25-30 W/(m·K)
180-220 W/(m·K)
Wärmeausdehnungskoeffizient
7,2×10⁻⁶/K
4,5×10⁻⁶/K
Maximale Betriebstemperatur
450°C
580°C
Schüttdichte
3,89 g/cm³
3,10 g/cm³


Mein Rivale-Keramik-Vakuumspannfutter für Wafer-Kernvorteile


 ● Durchbruch in der Materialwissenschaft

Mein Rivale nutzt eine einzigartige Materialformulierung und einen Sinterprozess, um die mechanische Festigkeit und thermische Stabilität seiner Produkte deutlich zu verbessern und gleichzeitig die hervorragenden Isolationseigenschaften keramischer Materialien beizubehalten. Unsere auf Aluminiumoxid basierenden Keramiken nutzen hochreine Rohstoffe und eine spezielle Additivformulierung, die eine hervorragende Dimensionsstabilität auch in Umgebungen mit hohen Temperaturen gewährleistet. Unsere auf Siliziumkarbid basierenden Keramiken erreichen durch einen optimierten Sinterprozess eine höhere Wärmeleitfähigkeit und eine verbesserte thermische Anpassung, wodurch sie sich besonders gut für die Hochtemperatur-SiC-Waferverarbeitung eignen.


 ● Hervorragende Wärmemanagementleistung

Unser einzigartiges mehrschichtiges Design und die Präzisionsbearbeitung stellen sicher, dass das Spannfutter auch unter Hochtemperatur-Betriebsbedingungen eine hervorragende thermische Gleichmäßigkeit beibehält. Der Siliziumkarbid-Chuck verfügt über eine Wärmeleitfähigkeit von mehr als 200 W/m·K, was einen schnellen Temperaturausgleich ermöglicht und Schwankungen der Waferoberflächentemperatur innerhalb von ±0,8 °C hält. Diese überlegene Fähigkeit zum Wärmemanagement vermeidet effektiv Prozessfehler, die durch Temperaturschwankungen verursacht werden, und verbessert die Produktausbeute erheblich.


● Hochpräzise Bearbeitungstechnologie

Mein Rivale verfügt über führende Präzisionsbearbeitungszentren in China, die einzigartige Schleif- und Polierprozesse nutzen, um eine Oberflächenebenheit im Submikrometerbereich zu erreichen. Unsere Siliziumkarbid-Spannfutter erreichen eine Oberflächenebenheit von 0,8 μm und einen Ra-Wert der Oberflächenrauheit von nicht mehr als 0,1 μm. Diese hochpräzise Oberflächenqualität sorgt für eine perfekte Passung zwischen Wafer und Chuck und bietet eine zuverlässige flache Referenz für Präzisionsprozesse wie die Fotolithografie.


● Verbesserte Lebensdauer

Durch optimierte Materialformulierungen und verstärktes Strukturdesign haben unsere Produkte eine Lebensdauer von über 40 % im Vergleich zu herkömmlichen Produkten. Durch spezielle Kantenverstärkungs- und Oberflächenbeschichtungstechnologien halten unsere Produkte häufigen Spann- und Reinigungsvorgängen stand. Produkte auf Aluminiumoxidbasis haben eine Garantie von mehr als 200.000 Betriebszyklen, während Produkte auf Siliziumkarbidbasis über 500.000 Zyklen erreichen können, was die Betriebskosten für unsere Kunden erheblich senkt.


● Bestätigung der Verifizierung der ökologischen Kette

Die Verifizierung der ökologischen Kette des Veteksemicon-Keramik-Vakuumspannfutters für Wafer erstreckt sich von den Rohstoffen bis zur Produktion, hat die internationale Standardzertifizierung bestanden und verfügt über eine Reihe patentierter Technologien, um seine Zuverlässigkeit und Nachhaltigkeit in den Bereichen Halbleiter und neue Energien sicherzustellen.


Für detaillierte technische Spezifikationen, Whitepapers oder Mustertestvereinbarungen wenden Sie sich bitte an unsKontaktieren Sie unser technisches Support-Teamum herauszufinden, wie Veteksemicon Ihre Prozesseffizienz steigern kann.


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