Silizium -Carbid -Wafer -Chuck

Vetek Semiconductor Silicon Carbid Wafer Chuck verwendet die hervorragenden Eigenschaften von Siliziumcarbidmaterialien, um die strengen Anforderungen der Halbleiterproduktion zu erfüllen, insbesondere bei der Verarbeitung von Halbleiter, die äußerst hohe Präzision und Zuverlässigkeit erfordert.

Im Halbleiterverarbeitungsprozess,Siliziumkarbidhat einen hervorragenden Hochtemperaturwiderstand (kann stabil mit bis zu 1400 ° C funktionieren), eine geringe Leitfähigkeit (sic hat eine relativ geringe Leitfähigkeit, typischerweise 10^^-3S/m) und niedriger Wärmeausdehnungskoeffizient (ca. 4,0 × 10^^-6/° C), was ein unverzichtbares und wichtiges Material ist, insbesondere für die Herstellung von Siliziumkarbid -Wafer -Scheiße.

Während desEpitaxialwachstumsprozessEine dünne Schicht aus Halbleitermaterial wird auf einem Substrat abgelagert, die vom Wafer absolut Stabilität erfordert, um gleichmäßige und qualitativ hochwertige Filmablagerungsschichten zu gewährleisten. Das SIC -Vakuum -Chuck erreicht dies, indem es einen festen, konsistenten Vakuum -Hold schafft, um eine Bewegung oder Verformung des Wafers zu verhindern.

Das Silizium -Carbid -Wafer -Chuck bietet auch einen hervorragenden Widerstand gegen thermischen Schock. Schnelle Temperaturänderungen sind bei der Herstellung von Halbleitern häufig, und Materialien, die diesen Schwankungen nicht standhalten können, können knacken, sich biegen oder scheitern. Siliziumkarbid hat einen niedrigen Wärmeausdehnungskoeffizienten und kann seine Form und Funktion auch unter drastischen Temperaturänderungen beibehalten, um sicherzustellen, dass der Wafer während des Epitaxieprozesses ohne Bewegung oder Fehlausrichtung sicher bleibt.

Außerdem dieEpitaxieprozessBeinhaltet häufig reaktive Gase und andere korrosive Chemikalien. Die chemische Inertheit des SIC -Wafer -Chucks stellt sicher, dass es von diesen harten Umgebungen nicht beeinflusst wird, seine Leistung aufrechterhalten und ihre Lebensdauer erweitert. Diese chemische Haltbarkeit verringert nicht nur die Häufigkeit des Wafer-Launenersatzes, sondern gewährleistet auch die konsistente Produktleistung über mehrere Produktionszyklen, was dazu beiträgt, die Gesamteffizienz und Kosteneffizienz des Semiconductor-Herstellungsprozesses zu verbessern.

Vetek Semiconductor ist ein führender Hersteller und Lieferant von Silicium Carbid Wafer Chuck -Produkten in China. Wir können verschiedene Arten von Chuck -Produkten anbieten, z.Poröse Sic -Keramik -Chuck, Poröses Sic Vakuum -Chuck, Poröser Keramik -Vakuum -ChuckUndTAC beschichtetes Chuckusw. Vetek Semiconductor ist verpflichtet, fortschrittliche Technologie- und Produktlösungen für die Halbleiterindustrie bereitzustellen. Wir hoffen aufrichtig, Ihr langfristiger Partner in China zu werden.

SEM -Daten von CVDSiC -Filmkristallstruktur：

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