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CVD -SIC -Beschichtungsheizelement
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CVD -SIC -Beschichtungsheizelement

CVD -SIC -Beschichtungsheizelement spielt eine Kernrolle bei Heizmaterialien im PVD -Ofen (Verdunstungsabscheidung). Vetek Semiconductor ist ein führender Hersteller von CVD -SIC -beschichteten Heizelementen in China. Wir haben fortschrittliche CVD -Beschichtungsfunktionen und können Ihnen maßgeschneiderte CVD -SIC -Beschichtungsprodukte zur Verfügung stellen. Vetek Semiconductor freut sich darauf, Ihr Partner im sic -beschichteten Heizelement zu werden.

CVD -SIC -Beschichtungsheizelement wird hauptsächlich in PVD -Geräten (Physical Dampf Dampf) verwendet. Beim Verdampfungsprozess wird das Material erhitzt, um Verdunstung oder Sputtern zu erreichen, und schließlich wird ein gleichmäßiger Dünnfilm auf dem Substrat gebildet.


Ⅰ.Spezifische Anwendung

Dünnfilmablagerung: In der Verdunstungsquelle oder der Sputterquelle wird CVD -SIC -Beschichtungsheizelement verwendet. Durch Erhitzen erweckt das Element das Material, das auf eine hohe Temperatur abgelagert wird, so dass seine Atome oder Moleküle von der Oberfläche des Materials getrennt sind, wodurch Dampf oder Plasma bildet. Unsere Heizelement -Basis -SIC -Beschichtung kann auch einige Metall- oder Keramikmaterialien direkt erwärmen, um sie in einer Vakuumumgebung zu verdampfen oder zu sublimieren, um sie als Materialquelle im PVD -Prozess zu verwenden. Da die Struktur konzentrische Rillen aufweist, kann sie den aktuellen Pfad und die Wärmeverteilung besser steuern, um die Gleichmäßigkeit der Erwärmung zu gewährleisten.

Schematic diagram of the evaporation PVD process

Schematischer Diagramm des Verdunstungs -PVD -Prozesss

Ⅱ.Arbeitsprinzip

Widerstandserheizung, wenn der Strom durch den Widerstandsweg der sicbeschichteten Heizung fließt, wird Joule Wärme erzeugt, wodurch die Wirkung der Erwärmung erreicht wird. Mit der konzentrischen Struktur kann der Strom gleichmäßig verteilt werden. Ein Temperaturregelgerät ist normalerweise mit dem Element angeschlossen, um die Temperatur zu überwachen und anzupassen.


Ⅲ.Materielles und strukturelles Design

Das CVD-SIC-Beschichtungsheizelement besteht aus Hochpüren-Graphit- und SIC-Beschichtung, um mit hoher Temperaturumgebung fertig zu werden. High-Purity-Graphit selbst wurde häufig als thermisches Feldmaterial verwendet. Nachdem eine Beschichtungsschicht auf die Graphitoberfläche nach CVD-Methode angewendet wurde, werden ihre Hochtemperaturstabilität, Korrosionsbeständigkeit, thermische Effizienz und andere Eigenschaften weiter verbessert.


CVD SiC coating CVD SiC coating Heating Element


Durch das Design konzentrischer Rillen kann der Strom eine gleichmäßige Schleife auf der Scheibenoberfläche bilden. Es erreicht eine gleichmäßige Wärmeverteilung, vermeidet lokale Überhitzung, die durch Konzentration in bestimmten Bereichen verursacht wird, verringert zusätzlichen Wärmeverlust, der durch die Stromkonzentration verursacht wird, und verbessert somit die Heizungseffizienz.


Das CVD -SIC -Beschichtungsheizelement besteht aus zwei Beinen und einem Körper. Jedes Bein verfügt über einen Faden, der mit der Stromversorgung verbunden ist. Vetek Semiconductor kann einteilige Teile oder geteilte Teile herstellen, dh die Beine und der Körper werden separat hergestellt und dann zusammengebaut. Unabhängig davon, welche Anforderungen Sie für die CVD -SIC -beschichtete Heizung haben, wenden Sie sich bitte an uns. Veteksemi kann die von Ihnen benötigten Produkte bereitstellen.


Grundlegende physikalische Eigenschaften der CVD -sic -Beschichtung:


Grundlegende physikalische Eigenschaften der CVD -sic -Beschichtung
Eigentum
Typischer Wert
Kristallstruktur
Polykristalline FCC -β -Phasen -FCC -β -Phase, hauptsächlich (111) orientiert
Dichte
3,21 g/cm³
Härte
2500 Vickers Härte (500 g Last)
Körnung
2 ~ 10 mm
Chemische Reinheit
99,99995%
Wärmekapazität
640 J · kg-1· K-1
Sublimationstemperatur
2700 ℃
Biegerstärke
415 MPa RT 4-Punkte
Young's Modul
430 GPA 4PT Bend, 1300 ℃
Wärmeleitfähigkeit
300W · m-1· K-1
Wärmeausdehnung (CTE)
4,5 × 10-6K-1

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