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Tantalcarbid-Beschichtung

VeTek Semiconductor ist ein führender Hersteller von Tantalcarbid-Beschichtungsmaterialien für die Halbleiterindustrie. Zu unserem Hauptproduktangebot gehören CVD-Tantalcarbid-Beschichtungsteile, gesinterte TaC-Beschichtungsteile für das SiC-Kristallwachstum oder den Halbleiterepitaxieprozess. VeTek Semiconductor hat ISO9001 bestanden und verfügt über eine gute Qualitätskontrolle. VeTek Semiconductor ist bestrebt, durch kontinuierliche Forschung und Entwicklung iterativer Technologien zum Innovator in der Tantalcarbid-Beschichtungsindustrie zu werden.


Die Hauptprodukte sindTaC-beschichteter Führungsring, CVD-TaC-beschichteter dreiblättriger Führungsring, Tantalkarbid-TaC-beschichteter Halbmond, CVD-TaC-beschichteter planetarischer epitaktischer SiC-Suszeptor, Tantalkarbid-Beschichtungsring, Mit Tantalkarbid beschichteter poröser Graphit, Rotationssuszeptor mit TaC-Beschichtung, Tantal-Karbid-Ring, Rotationsplatte mit TaC-Beschichtung, TaC-beschichteter Wafer-Suszeptor, TaC-beschichteter Deflektorring, CVD-TaC-Beschichtungsabdeckung, TaC-beschichtetes Spannfutterusw., die Reinheit liegt unter 5 ppm, kann die Kundenanforderungen erfüllen.


TaC-Beschichtungsgraphit wird hergestellt, indem die Oberfläche eines hochreinen Graphitsubstrats mit einer feinen Schicht Tantalkarbid durch ein proprietäres chemisches Gasphasenabscheidungsverfahren (CVD) beschichtet wird. Der Vorteil ist im folgenden Bild dargestellt:


Excellent properties of TaC coating graphite


Die Tantalcarbid (TaC)-Beschichtung hat aufgrund ihres hohen Schmelzpunkts von bis zu 3880 °C, ihrer hervorragenden mechanischen Festigkeit, Härte und Beständigkeit gegen Thermoschocks Aufmerksamkeit erregt, was sie zu einer attraktiven Alternative zu Epitaxieprozessen für Verbindungshalbleiter mit höheren Temperaturanforderungen macht. wie das Aixtron MOCVD-System und der LPE-SiC-Epitaxieprozess. Es findet auch eine breite Anwendung im SiC-Kristallwachstumsprozess mit der PVT-Methode.


Hauptmerkmale:

 ●Temperaturstabilität

 ●Ultrahohe Reinheit

 ●Beständigkeit gegen H2, NH3, SiH4, Si

 ●Beständigkeit gegen thermische Bestände

 ●Starke Haftung auf Graphit

 ●Schutzbeschichtung

 ● Größe bis 750 mm Durchmesser (Der einzige Hersteller in China erreicht diese Größe)


Anwendungen:

 ●Waffelträger

 ● Induktiver Heizsuszeptor

 ● Widerstandsheizelement

 ●Satellitenscheibe

 ●Duschkopf

 ●Führungsring

 ●LED-Epi-Empfänger

 ●Einspritzdüse

 ●Abdeckring

 ● Hitzeschild


Tantalcarbid (TaC)-Beschichtung auf einem mikroskopischen Querschnitt:


the microscopic cross-section of Tantalum carbide (TaC) coating


Parameter der VeTek Semiconductor Tantalcarbid-Beschichtung:

Physikalische Eigenschaften der TaC-Beschichtung
Dichte 14,3 (g/cm³)
Spezifischer Emissionsgrad 0.3
Wärmeausdehnungskoeffizient 6,3 10-6/K
Härte (HK) 2000 HK
Widerstand 1×10-5Ohm*cm
Thermische Stabilität <2500℃
Graphitgrößenänderungen -10~-20um
Beschichtungsdicke ≥20um typischer Wert (35um±10um)


TaC-Beschichtung EDX-Daten：

EDX data of TaC coating


Kristallstrukturdaten der TaC-Beschichtung:

Element Atomprozent
Pt. 1 Pt. 2 Pt. 3 Durchschnitt
C K 52.10 57.41 52.37 53.96
Ihnen 47.90 42.59 47.63 46.04


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Tantalum -Carbid -beschichtetes Rohr für Kristallwachstum

Tantalum -Carbid -beschichtetes Rohr für Kristallwachstum

Tantal -Carbid -beschichtetes Rohr für das Kristallwachstum wird hauptsächlich im SIC -Kristallwachstumsprozess verwendet. Vetek Semiconductor liefert seit vielen Jahren für das Kristallwachstum mit dem Tantal -Carbidbeschichteten Röhrchen und arbeitet seit vielen Jahren auf dem Gebiet der TAC -Beschichtung. Unsere Produkte haben eine hohe Reinheit und eine hohe Temperaturbeständigkeit. Wir freuen uns darauf, Ihr langfristiger Partner in China zu werden. Fühlen Sie sich frei, uns zu erkundigen.
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TaC-beschichteter Ring für SiC-Epitaxialreaktor

TaC-beschichteter Ring für SiC-Epitaxialreaktor

Vetek Semiconductor ist ein führender Hersteller und technologischer Innovator des TAC-beschichteten Ringes für sic epitaxiale Reaktor in China und konzentriert sich auf die Bereitstellung leistungsstarker Lösungen für SIC-epitaxiale Reaktoren. Wir haben viele Jahre Erfahrung in der TAC -Beschichtungstechnologie. Der mit TAC beschichtete Ring hat die Eigenschaften hoher Reinheit, hoher Stabilität, hervorragender Korrosionsbeständigkeit usw. und kann eine langfristige stabile Leistung in der harten Arbeitsumgebung epitaxieller Reaktoren liefern. Wir freuen uns auf eine langfristige strategische Partnerschaft mit Ihnen.
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Mit Tantalkarbid beschichtetes Halbmondteil für LPE

Mit Tantalkarbid beschichtetes Halbmondteil für LPE

VeTek Semiconductor ist ein führender Anbieter von mit Tantalcarbid beschichteten Halbmondteilen für LPE in China und konzentriert sich seit vielen Jahren auf die TaC-Beschichtungstechnologie. Unser mit Tantalkarbid beschichtetes Halbmondteil für LPE ist für den Flüssigphasenepitaxieprozess konzipiert und hält hohen Temperaturen von über 2000 Grad Celsius stand. Mit hervorragender Materialleistung und Prozessinnovation ist unsere Produktlebensdauer branchenweit führend. VeTek Semiconductor freut sich darauf, Ihr langfristiger Partner in China zu sein.
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TAC Coated Guide Ring

TAC Coated Guide Ring

Der TAC-beschichtete Führungsring besteht aus hochwertiger Graphit- und TAC-Beschichtung. Bei der Herstellung von SIC -Kristallen nach PVT -Verfahren wird der TAC -beschichtete Guide -Ring von Vetek Halbleiter hauptsächlich zum Leitfaden und Steuerung des Luftstroms verwendet, den Einkristallwachstumsprozess optimiert und die Einkristallausbeute verbessert. Mit ausgezeichneter TAC -Beschichtungstechnologie haben unsere Produkte eine hervorragende Hochtemperaturfestigkeit, Korrosionsbeständigkeit und gute mechanische Eigenschaften.
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Tantal -Carbid -beschichtete Planetenrotationsscheibe

Tantal -Carbid -beschichtete Planetenrotationsscheibe

VeTek Semiconductor ist ein führender Hersteller und Lieferant von mit Tantalkarbid beschichteten Planetenrotationsscheiben in China und konzentriert sich seit vielen Jahren auf die TaC-Beschichtungstechnologie. Unsere Produkte zeichnen sich durch eine hohe Reinheit und eine ausgezeichnete Hochtemperaturbeständigkeit aus, was von Halbleiterherstellern weithin anerkannt wird. Die mit Tantalkarbid beschichtete Planetenrotationsscheibe von VeTek Semiconductor ist zum Rückgrat der Wafer-Epitaxie-Industrie geworden. Wir freuen uns auf eine langfristige Partnerschaft mit Ihnen, um gemeinsam den technologischen Fortschritt und die Produktionsoptimierung voranzutreiben.
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TAC Coated Graphit Wafer Carrier

TAC Coated Graphit Wafer Carrier

VeTek Semiconductor hat sorgfältig TaC-beschichtete Graphit-Waferträger für Kunden entwickelt. Es besteht aus hochreinem Graphit und einer TaC-Beschichtung, die für verschiedene Wafer-Epitaxie-Waferverarbeitungen geeignet ist. Wir sind seit vielen Jahren auf SiC- und TaC-Beschichtungen spezialisiert. Im Vergleich zur SiC-Beschichtung weist unser TaC-beschichteter Graphit-Waferträger eine höhere Temperaturbeständigkeit und Verschleißfestigkeit auf. Wir freuen uns darauf, Ihr langfristiger Partner in China zu werden.
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Als professioneller Hersteller und Lieferant in China haben wir unsere eigene Fabrik. Unabhängig davon, ob Sie maßgeschneiderte Dienste benötigen, um die spezifischen Bedürfnisse Ihrer Region zu erfüllen oder erweiterte und langlebige Tantalcarbid-Beschichtung in China hergestellt zu werden, können Sie uns eine Nachricht hinterlassen.
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