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Tantal -Carbid -Ring
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Tantal -Carbid -Ring

Als fortschrittlicher Hersteller und Hersteller von Tantal -Carbid -Ringprodukten in China weist Vetek Semiconductor Tantal -Carbid -Ring extrem hohe Härte, Verschleißfestigkeit, Hochtemperaturfestigkeit und chemische Stabilität auf und wird im Semiconductor -Herstellungsfeld häufig verwendet. Insbesondere bei CVD, PVD, Ionenimplantationsprozess, Radierungsprozess sowie Waferverarbeitung und -transport ist es ein unverzichtbares Produkt für die Verarbeitung und Herstellung von Halbleiter. Ich freue mich auf Ihre weitere Beratung.

Der TAC-Ring (Vetek Semiconductor's Tantal Carbid) verwendet hochwertiges Graphit als Kernmaterial und kann dank seiner einzigartigen Struktur seine Form und mechanische Eigenschaften unter den extremen Bedingungen eines Kristallwachstumsofens aufrechterhalten. Der hohe Wärmewiderstand von Graphit verleiht ihm eine hervorragende Stabilität im gesamtenKristallwachstumsprozess.


Die äußere Schicht des TAC -Rings ist mit a bedecktTantal -Carbidbeschichtung, ein Material, das für seine extrem hohe Härte, einen Schmelzpunkt von über 3880 ° C und eine hervorragende Resistenz gegen chemische Korrosion bekannt ist, wodurch es besonders für Hochtemperaturbetriebsumgebungen geeignet ist. Die Tantal-Carbidbeschichtung bietet eine starke Barriere, um gewalttätige chemische Reaktionen effektiv zu verhindern und sicherzustellen, dass der Graphitkern nicht durch Hochtemperaturofengase korrodiert wird.


WährendSiliziumcarbid (sic) Kristallwachstum, stabile und gleichmäßige Wachstumsbedingungen sind der Schlüssel zur Gewährleistung hochwertiger Kristalle. Der Tantal -Carbid -Beschichtungsring spielt eine wichtige Rolle bei der Regulierung des Gasflusss und der Optimierung der Temperaturverteilung im Ofen. Als Gasführerring sorgt der TAC -Ring für eine gleichmäßige Verteilung der Wärmeenergie und Reaktionsgase, wodurch ein einheitliches Wachstum und die Stabilität von SIC -Kristallen gewährleistet wird.


Darüber hinaus ermöglicht die hohe thermische Leitfähigkeit von Graphit in Kombination mit der Schutzwirkung von Tantal-Carbidbeschichtet den TAC-Führungsring, um stabil in der für das Wachstum von SIC-Kristall erforderlichen Hochtemperaturumgebung zu arbeiten. Seine strukturelle Festigkeit und dimensionale Stabilität sind entscheidend für die Aufrechterhaltung von Bedingungen im Ofen, die die Qualität der erzeugten Kristalle direkt beeinflussen. Durch die Reduzierung von thermischen Schwankungen und chemischen Reaktionen im Ofen hilft TAC-Beschichtungsring bei der Erzeugung von Kristallen mit hervorragenden elektronischen Eigenschaften für Hochleistungs-Halbleiteranwendungen.


Vetek Semiconductor's Tantal Carbid Ring ist eine Schlüsselkomponente vonSiliziumkarbidkristallwachstumsöfenund fällt auf seine hervorragende Haltbarkeit, thermische Stabilität und chemische Resistenz aus. Die einzigartige Kombination aus Graphitkern und TAC -Beschichtung ermöglicht es ihm, die strukturelle Integrität und Funktionalität unter harten Bedingungen aufrechtzuerhalten. Durch die genaue Kontrolle des Temperatur- und Gasflusss innerhalb des Ofens liefert der TAC-Beschichtungsring die erforderlichen Bedingungen für die Herstellung hochwertiger sic-Kristalle, die für die Produktion von Halbleiterkomponenten in der Halbleiterkomponente von entscheidender Bedeutung sind.


Tantal-Carbid (TAC) -Beschicht auf einem mikroskopischen Querschnitt

Tantalum carbide (TaC) coating on a microscopic cross-section 1Tantalum carbide (TaC) coating on a microscopic cross-section 2Tantalum carbide (TaC) coating on a microscopic cross-section 3Tantalum carbide (TaC) coating on a microscopic cross-section 4



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