CVD sicbeschichtete Decke

Es Halbleiter CVD sicbeschichtete Deckewurde aufgrund seiner hervorragenden Leistung im Bereich der Halbleiterverarbeitung weit verbreitet. Es kann nicht nur die Umgebung für sauberes Raum effektiv schützen, sondern auch die Produktionseffizienz verbessern und die Produktionskosten senken. Wir begrüßen Ihre Beratung aufrichtig.

Die spezifische Rolle von Vetek Semiconductor's'sCVD sicbeschichtete DeckeIm Bereich der Halbleiterverarbeitung ist wie folgt:

Schutz des sauberen Raums Umweltschutz:

Verschmutzung: Die Oberfläche der sic -Beschichtung ist glatt und dicht, und es ist nicht einfach, Partikel zu adsorbieren, was die Diffusion von Partikeln in der sauberen Umgebung effektiv verhindert und die hohe Reinheit des Produkts gewährleistet.

Chemische Korrosionsresistenz: Die sic -Beschichtung kann der Korrosion starker Säuren, starker Alkalien und anderer Chemikalien widerstehen, die Deckenstruktur schützen und die Lebensdauer verlängern.

Statische Kontrolle:

Statische Strom reduzieren: Die SIC -Beschichtung hat eine gute Leitfähigkeit, die die Erzeugung und Ansammlung statischer Elektrizität effektiv reduzieren und die Schädigung statischer Elektrizität auf Halbleitergeräte reduzieren kann.

Thermalmanagement:

Wärmeissipation: Die hohe thermische Leitfähigkeit von SIC hilft dabei, die Wärme schnell abzuleiten, die Temperatur im Reinraum zu reduzieren und eine stabile Arbeitsumgebung für Präzisionsinstrumente und -ausrüstung zu bieten.

Resistenz tragen: Verlängerung der Lebensdauer: Die SIC -Beschichtung hat eine extrem hohe Härte, die dem Verschleiß effektiv widerstehen, die Lebensdauer der Decke verlängern und die Wartungskosten senken können.

In Zukunft, mit der kontinuierlichen Entwicklung der Halbleitertechnologie,,CVD -SIC -Beschichtungsdeckenwird in mehr Feldern verwendet und bietet zuverlässigere Garantien für die Entwicklung der Halbleiterindustrie.

Produktparameter:

CVD sicbeschichtete DeckeProduktionsläden:

Überblick über die Halbleiter -Chip -Epitaxie -Industriekette：