Ultra reiner Graphit Untermoon

Vetek Semiconductor ist ein professioneller Hersteller, der sich der Bereitstellung von ultra reiner Graphit -Untermoune der Bereitstellung von unteren Halbmessungen widmet. Unsere Produkte Ultra Pure Graphit Lower Halfmoon wurden speziell für SIC -Epitaxialkammern entwickelt und bieten mit verschiedenen Gerätemodellen eine überlegene Leistung und Kompatibilität.

Merkmale:

Anschluss: Vetek Semiconductor Ultra Pure Graphit Die untere Halbmoon ist so ausgelegt, dass sie mit Quarzrohre verbunden ist und den Gasfluss erleichtert, um die Drehung der Trägerbasis zu antreiben.

Temperaturregelung: Das Produkt ermöglicht die Temperaturregelung und sorgt für optimale Bedingungen innerhalb der Reaktionskammer.

Nichtkontakte Konstruktion: In der Reaktionskammer installiert unsere ultra-reine Graphit-Untermoon-Halbmoon kontaktiert die Wafer nicht direkt und stellt die Integrität des Prozesses sicher.

Anwendungsszenario:

Unser ultra reiner Graphit -Untermoon ist eine kritische Komponente in sic epitaxialen Kammern, wo sie den Verunreinigungsgehalt unter 5 ppm aufrechterhält. Durch die enge Überwachung von Parametern wie Dicke und Dotierungskonzentrationsgleichmäßigkeit gewährleisten wir die epitaxialen Schichten von höchster Qualität.

Kompatibilität:

Vetek Semiconductor's Ultra Pure Graphit Lower Halfmoon ist mit einer Vielzahl von Gerätemodellen kompatibel, darunter LPE, Naura, JSG, CETC, NASO Tech usw.

Wir laden Sie ein, unsere Fabrik in China zu besuchen, um unsere hochwertige ultra-reine Graphit-Halbmoon aus erster Hand zu erkunden.

Grundlegende physikalische Eigenschaften der CVD -sic -Beschichtung:

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Überblick über die Semiconductor Chip Epitaxy Industry -Kette: