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Der SIC-Block von Vetekememon ist für hocheffizientes Schleifen und Ausdünnen von Silizium- und Saphir-Wafern ausgelegt. Mit ausgezeichneter thermischer Leitfähigkeit (≥120 W/m · k), hoher thermischer Schockwiderstand und überlegener Verschleißfestigkeit (MOHS ≥ 9) verbessern unsere Blöcke die Prozessstabilität und reduzieren die Frequenz der Werkzeugeänderung. Erhältlich in Größen von 120 mm bis 480 mm, mit maßgeschneiderten Optionen und schneller Lieferung, um den unterschiedlichen Produktionsanforderungen zu erfüllen.

Der von Vetekememon in fortgeschrittene Halbleiterprozesse wie MOCVD, LPCVD und Hochtemperature Annealing. Mit einer gleichmäßigen CVD-SIC-Beschichtung sorgt dieser Waferhalter für eine außergewöhnliche thermische Leitfähigkeit, chemische Inertheit und mechanische Festigkeit-wesentlich für die Verarbeitung mit kontaminationsfreier, hochrangiger Wafer.

Vetekemicon High-Purity-SIC-Kantenringe, speziell für Halbleiter-Ätzgeräte ausgelegt, verfügen

Vetekemicon SIC -Keramikmembranen sind eine Art anorganischer Membran und gehören zu festen Membranmaterialien in der Membran -Trennungstechnologie. SIC -Membranen werden mit einer Temperatur über 2000 ℃ abgefeuert. Die Oberfläche der Partikel ist glatt und rund. Es gibt keine geschlossenen Poren oder Kanäle in der Stützschicht und jeder Schicht. Sie bestehen normalerweise aus drei Schichten mit unterschiedlichen Porengrößen.

CMP-Polierslurry (Chemical Mechanical Polishing Slurry) ist ein Hochleistungsmaterial, das in der Halbleiterfertigung und Präzisionsmaterialbearbeitung eingesetzt wird. Seine Hauptfunktion besteht darin, durch den synergistischen Effekt von chemischer Korrosion und mechanischem Schleifen eine feine Ebenheit und Politur der Materialoberfläche zu erreichen, um die Anforderungen an Ebenheit und Oberflächenqualität auf Nanoebene zu erfüllen. Wir freuen uns auf Ihre weitere Beratung.

Als führender chinesischer Hersteller von glasigen Kohlenstoffprodukten werden die glasigen Kohlenstoffkranz von Vetekememon aufgrund ihrer hervorragenden ultrahohen Reinheit, Nullporosität, Anti-Permeation und hervorragender chemischer Korrosionsresistenz im Halbleiter-Produktionsfeld häufig verwendet und von europäischen und amerikanischen Kunden ein hohes Lob gewonnen. Willkommen zu Ihrer Anfrage.