PSS -Ätzungsträgerplatte für Halbleiter

● Präzisionsdesign: Die Trägerplatte ist mit präzisen Abmessungen und Oberflächenflatheit entwickelt, um ein gleichmäßiges und konsistentes Ätzen über die Halbleiterwafer zu gewährleisten. Es bietet eine stabile und kontrollierte Plattform für die Wafer, die genaue und zuverlässige Ätzungsergebnisse ermöglicht.

● Plasmabeständigkeit: Die Trägerplatte weist eine hervorragende Resistenz gegen das im Radierungsprozess verwendete Plasma auf. Es bleibt von den reaktiven Gasen und dem hochenergetischen Plasma nicht beeinflusst, um eine längere Lebensdauer und eine konsistente Leistung zu gewährleisten.

● Wärmeleitfähigkeit: Die Trägerplatte verfügt über eine hohe thermische Leitfähigkeit, um die während des Ätzungsprozesses effizient erzeugte Wärme zu leiten. Dies hilft bei der Aufrechterhaltung einer optimalen Temperaturkontrolle und verhindert eine Überhitzung der Halbleiterwafer.

● Kompatibilität: Die PSS -Ätz -Trägerplatte ist so ausgelegt, dass sie mit verschiedenen Halbleiter -Wafergrößen kompatibel ist, die in der Branche üblicherweise verwendet werden, um die Vielseitigkeit und Benutzerfreundlichkeit in verschiedenen Herstellungsprozessen zu gewährleisten.

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