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Also die Unterstützung beschichten
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Also die Unterstützung beschichten

Vetek Semiconductor konzentriert sich auf die Forschung und Entwicklung und Industrialisierung der CVD -SIC -Beschichtung und der CVD -TAC -Beschichtung. Als Beispiel wird das Produkt mit SIC -Beschichtungs -Anfälligkeiten stark mit hoher Präzision, dichtem CVD -SIC -Beschichtung, hoher Temperaturbeständigkeit und starken Korrosionsbeständigkeit verarbeitet. Ihre Anfrage zu uns ist willkommen.

Sie können sicher sein, dass Sie SIC -Beschichtungs -Anfälle aus unserer Fabrik kaufen. Als CVD -SIC -Beschichtungshersteller möchte Vetek Semiconductor Ihnen SIC -Beschichtungssunisierer zur Verfügung stellen, die aus hochreinigem Graphit- und SIC -Beschichtungs -Empfängnis (unter 5 ppm) besteht.


Bei Vetek Semiconductor sind wir auf Technologieforschung, -entwicklung und -herstellung spezialisiert und bieten eine Reihe fortschrittlicher Produkte für die Branche an. Unsere Hauptproduktlinie umfasst CVD -SIC -Beschichtung+Hochreinheit -Graphit, SIC -beschichtete Suszeptor, Halbleiterquarz, CVD -TAC -Beschichtung+Hochreinheit -Graphit, starres Filz und andere Materialien.

Eines unserer Flaggschiffprodukte ist der SIC -Beschichtungs -Suszeptor, der mit innovativer Technologie entwickelt wurde, um die strengen Anforderungen der Produktion von epitaxialen Wafer zu erfüllen. Epitaxiale Wafer müssen eine enge Wellenlängenverteilung und niedrige Oberflächendefektniveaus aufweisen, wodurch unsere SIC -Beschichtung zu einer wesentlichen Komponente bei der Erreichung dieser entscheidenden Parameter ist.

Vorteile unseres SIC -Beschichtungssuszeptors:


✔ Grundmaterialschutz: Die CVD -SIC -Beschichtung wirkt während des epitaxialen Prozesss als Schutzschicht und schützt das Basismaterial effektiv vor Erosion und Schäden, die durch die äußere Umgebung verursacht werden. Diese Schutzmaßnahme erweitert die Lebensdauer der Ausrüstung erheblich.

✔ Ausgezeichnete thermische Leitfähigkeit: Unsere CVD -SIC -Beschichtung besitzt eine hervorragende thermische Leitfähigkeit und überträgt die Wärme aus dem Grundmaterial effizient auf die Beschichtungsoberfläche. Dies verbessert die Effizienz des thermischen Managements während der Epitaxie und stellt optimale Betriebstemperaturen für die Geräte sicher.

✔ Verbesserte Filmqualität: Die CVD -SIC -Beschichtung bietet eine flache und gleichmäßige Oberfläche und bildet eine ideale Grundlage für das Filmwachstum. Es reduziert Defekte, die sich aus einer Gitterfehlanpassung ergeben, verbessert die Kristallinität und Qualität des epitaxialen Films und verbessert letztendlich seine Leistung und Zuverlässigkeit.


Wählen Sie Vetek Semiconductor SIC Coating Susceptor für Ihren epitaxialen Waferproduktionsbedarf und profitieren von einem verbesserten Schutz, einer überlegenen thermischen Leitfähigkeit und einer verbesserten Filmqualität. Vertrauen in die innovativen Lösungen von Vetek Semiconductor, um Ihren Erfolg in der Halbleiterindustrie voranzutreiben.

Grundlegende physikalische Eigenschaften der CVD -sic -Beschichtung:

Grundlegende physikalische Eigenschaften der CVD -sic -Beschichtung
Eigentum Typischer Wert
Kristallstruktur Polykristalline FCC -β -Phasen -FCC -β -Phase, hauptsächlich (111) orientiert
CVD -SIC -Dichte 3,21 g/cm³
CVD -SIC -Beschichtungshärte 2500 Vickers Härte (500 g Last)
Körnung 2 ~ 10 mm
Chemische Reinheit 99,99995%
Wärmekapazität 640 J · kg-1· K-1
Sublimationstemperatur 2700 ℃
Biegerstärke 415 MPa RT 4-Punkte
Der Modul von Young 430 GPA 4PT Bend, 1300 ℃
Wärmeleitfähigkeit 300W · m-1· K-1
Wärmeausdehnung (CTE) 4,5 × 10-6K-1

Veteksemi Sic Coating Susceptor Production Shops:

SiC Coating Susceptor Production shops

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