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            VeTek Semiconductor ist Ihr innovativer Partner im Bereich der Halbleiterverarbeitung. Mit unserem umfangreichen Portfolio an Materialkombinationen aus Siliziumkarbidkeramik in Halbleiterqualität, Komponentenfertigungskapazitäten und anwendungstechnischen Dienstleistungen können wir Ihnen bei der Bewältigung bedeutender Herausforderungen helfen. Technische Siliziumkarbidkeramiken werden aufgrund ihrer außergewöhnlichen Materialleistung häufig in der Halbleiterindustrie eingesetzt. Die hochreine Siliziumkarbidkeramik von VeTek Semiconductor wird häufig im gesamten Zyklus der Halbleiterherstellung und -verarbeitung eingesetzt.
		
	
VeTek Semiconductor bietet technische Keramikkomponenten, die speziell für Batch-Diffusions- und LPCVD-Anforderungen entwickelt wurden, darunter:
• Leitbleche und Halter
• Einspritzdüsen
• Liner und Prozessrohre
• Cantilever-Paddel aus Siliziumkarbid
• Waffelschiffchen und Sockel
		
	
		  SiC-Cantilever-Paddel
 SiC-Cantilever-Paddel    SiC-Prozessrohre
 SiC-Prozessrohre    Siliziumkarbid-Prozessrohr
 Siliziumkarbid-Prozessrohr    SiC-Vertikal-Wafer-Boot
 SiC-Vertikal-Wafer-Boot    Horizontales Waferboot aus SiC
 Horizontales Waferboot aus SiC    SiC-Horizontalwafer-Boot
 SiC-Horizontalwafer-Boot    SiC-LPCVD-Waferboot
 SiC-LPCVD-Waferboot    SiC-Horizontalplattenboot
 SiC-Horizontalplattenboot    SiC-Keramik-Dichtungsring
 SiC-Keramik-Dichtungsring  
	
		
	
Minimieren Sie Verunreinigungen und außerplanmäßige Wartungsarbeiten mit hochreinen Komponenten, die für die Anforderungen der Plasmaätzverarbeitung entwickelt wurden, darunter:
Fokusringe
Düsen
Schilde
Duschköpfe
Fenster / Deckel
Andere benutzerdefinierte Komponenten
				 
 
			
		
	
VeTek Semiconductor bietet fortschrittliche Materialkomponenten, die auf Hochtemperatur-Wärmeverarbeitungsanwendungen in der Halbleiterindustrie zugeschnitten sind. Diese Anwendungen umfassen RTP, Epi-Prozesse, Diffusion, Oxidation und Glühen. Unsere technische Keramik ist so konzipiert, dass sie thermischen Schocks standhält und eine zuverlässige und konstante Leistung liefert. Mit den Komponenten von VeTek Semiconductor können Halbleiterhersteller eine effiziente und qualitativ hochwertige thermische Verarbeitung erreichen und so zum Gesamterfolg der Halbleiterproduktion beitragen.
• Diffusoren
• Isolatoren
• Suszeptoren
• Andere kundenspezifische thermische Komponenten
				 
 
			
		
	
| Physikalische Eigenschaften von rekristallisiertem Siliziumkarbid | |
| Eigentum | Typischer Wert | 
| Arbeitstemperatur (°C) | 1600°C (mit Sauerstoff), 1700°C (reduzierende Umgebung) | 
| SiC / SiC-Gehalt | > 99,96 % | 
| Si / Freier Si-Gehalt | < 0,1 % | 
| Schüttdichte | 2,60–2,70 g/cm3 | 
| Scheinbare Porosität | < 16 % | 
| Kompressionsstärke | > 600 MPa | 
| Kaltbiegefestigkeit | 80-90 MPa (20°C) | 
| Warmbiegefestigkeit | 90–100 MPa (1400 °C) | 
| Wärmeausdehnung bei 1500 °C | 4,70 · 10-6/°C | 
| Wärmeleitfähigkeit bei 1200 °C | 23 W/m·K | 
| Elastizitätsmodul | 240 GPa | 
| Thermoschockbeständigkeit | Extrem gut | 
		
	






 
                    

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