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Siliziumkarbidkeramik

VeTek Semiconductor ist Ihr innovativer Partner im Bereich der Halbleiterverarbeitung. Mit unserem umfangreichen Portfolio an Materialkombinationen aus Siliziumkarbidkeramik in Halbleiterqualität, Komponentenfertigungskapazitäten und anwendungstechnischen Dienstleistungen können wir Ihnen bei der Bewältigung bedeutender Herausforderungen helfen. Technische Siliziumkarbidkeramiken werden aufgrund ihrer außergewöhnlichen Materialleistung häufig in der Halbleiterindustrie eingesetzt. Die hochreine Siliziumkarbidkeramik von VeTek Semiconductor wird häufig im gesamten Zyklus der Halbleiterherstellung und -verarbeitung eingesetzt.


DIFFUSION & LPCVD-VERARBEITUNG

VeTek Semiconductor bietet technische Keramikkomponenten, die speziell für Batch-Diffusions- und LPCVD-Anforderungen entwickelt wurden, darunter:

• Leitbleche und Halter
• Einspritzdüsen
• Liner und Prozessrohre
• Cantilever-Paddel aus Siliziumkarbid
• Waffelschiffchen und Sockel


ÄTZPROZESSKOMPONENTEN

Minimieren Sie Verunreinigungen und außerplanmäßige Wartungsarbeiten mit hochreinen Komponenten, die für die Anforderungen der Plasmaätzverarbeitung entwickelt wurden, darunter:

Fokusringe

Düsen

Schilde

Duschköpfe

Fenster / Deckel

Andere benutzerdefinierte Komponenten


SCHNELLE THERMISCHE VERARBEITUNG UND EPITAXIALE PROZESSKOMPONENTEN

VeTek Semiconductor bietet fortschrittliche Materialkomponenten, die auf Hochtemperatur-Wärmeverarbeitungsanwendungen in der Halbleiterindustrie zugeschnitten sind. Diese Anwendungen umfassen RTP, Epi-Prozesse, Diffusion, Oxidation und Glühen. Unsere technische Keramik ist so konzipiert, dass sie thermischen Schocks standhält und eine zuverlässige und konstante Leistung liefert. Mit den Komponenten von VeTek Semiconductor können Halbleiterhersteller eine effiziente und qualitativ hochwertige thermische Verarbeitung erreichen und so zum Gesamterfolg der Halbleiterproduktion beitragen.

• Diffusoren

• Isolatoren

• Suszeptoren

• Andere kundenspezifische thermische Komponenten


Physikalische Eigenschaften von rekristallisiertem Siliziumkarbid
Eigentum Typischer Wert
Arbeitstemperatur (°C) 1600°C (mit Sauerstoff), 1700°C (reduzierende Umgebung)
SiC / SiC-Gehalt > 99,96 %
Si / Freier Si-Gehalt < 0,1 %
Schüttdichte 2,60–2,70 g/cm3
Scheinbare Porosität < 16 %
Kompressionsstärke > 600 MPa
Kaltbiegefestigkeit 80-90 MPa (20°C)
Warmbiegefestigkeit 90–100 MPa (1400 °C)
Wärmeausdehnung bei 1500 °C 4,70 · 10-6/°C
Wärmeleitfähigkeit bei 1200 °C 23 W/m·K
Elastizitätsmodul 240 GPa
Thermoschockbeständigkeit Extrem gut


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Siliziumkarbid-Waferschiffchen für Horizontalöfen

Siliziumkarbid-Waferschiffchen für Horizontalöfen

SiC-Wafer-Boote stellen hohe Anforderungen an die Materialreinheit. Vetek Semiconductor liefert für dieses Produkt SiC-Reinheit > 99,96 % rekristallisiertes SiC. VeTek Semiconductor ist ein professioneller Hersteller und Lieferant in China für Siliziumkarbid-Wafer-Boote für Horizontalöfen mit langjähriger Erfahrung in Forschung und Entwicklung Produktion, kann die Qualität gut kontrollieren und einen wettbewerbsfähigen Preis anbieten. Sie können sicher sein, dass Sie bei uns das Siliziumkarbid-Waferboot für den Horizontalofen kaufen.
Sic beschichtete Siliziumkarbid -Waferboot

Sic beschichtete Siliziumkarbid -Waferboot

SIC Coated Silicon Carbid Wafer Boat ist mit 165 Steckplätzen für Wafer ausgestattet. Vetek Semiconductor ist professioneller Hersteller und Lieferant in China für SIC -beschichtete Silizium -Carbid -Waferboot mit jahrelanger Erfahrung in der F & E und der Produktion kann die Qualitätsqualität kontrollieren und einen Wettbewerb anbieten. Preis. Willkommen für den Besuch in unserer Fabrik und diskutieren Sie weiter über die Zusammenarbeit.
Silizium -Carbid -Ausleger -Paddel

Silizium -Carbid -Ausleger -Paddel

Vetek Semiconductor's Silicon Carbid Cantilever Paddle ist eine wichtige Komponente im Semiconductor-Herstellungsprozess, insbesondere für Diffusionsöfen oder LPCVD-Öfen in Hochtemperaturprozessen wie Diffusion und RTP. Unser Silizium-Carbid-Cantilever-Paddel ist sorgfältig ausgestattet und mit hervorragendem Hochtemperaturwiderstand und mechanischer Stärke hergestellt und kann und kann sicher und zuverlässig Wafer in den Prozessrohr unter harten Prozessbedingungen für verschiedene Hochtemperaturprozesse wie Diffusion und RTP transportieren. Wir freuen uns darauf, Ihr langfristiger Partner in China zu werden. Feel Free, uns zu erkundigen.
Hoch reines Silizium -Carbid -Waferträger

Hoch reines Silizium -Carbid -Waferträger

Vetek Semiconductor High Pure Silicon Carbid Wafer Carrier sind wichtige Komponenten bei der Verarbeitung von Halbleiter, um empfindliche Siliziumwafer sicher zu halten und zu transportieren und in allen Herstellungsstadien eine Schlüsselrolle zu spielen. Vetek Semiconductor's Hood Pure Silicon Carbid Wafer Carrier wird sorgfältig entworfen und hergestellt, um eine hervorragende Leistung und Zuverlässigkeit zu gewährleisten. Vetek Semiconductor ist bestrebt, Qualitätsprodukte zu wettbewerbsfähigen Preisen bereitzustellen, und wir freuen uns darauf, Ihr langfristiger Partner in China zu sein.
Silizium -Carbid -Waferboot

Silizium -Carbid -Waferboot

Das hochpurige Silizium-Carbid-Waferboot von Vetek Semiconductor besteht aus extrem reinem Siliziumcarbidmaterial mit ausgezeichneter thermischer Stabilität, mechanischer Festigkeit und chemischer Widerstand. In der Herstellung von Halbleiter, insbesondere in Hochtemperaturumgebungen, wird in Heißzonenanwendungen ein hohes Silizium-Carbid-Waferboot verwendet und spielt eine wichtige Rolle beim Schutz von Wafern, dem Transport von Materialien und der Aufrechterhaltung stabiler Prozesse. Vetek Semiconductor wird weiterhin hart an der Innovation arbeiten und die Leistung des hohen Purity-Silizium-Carbid-Waferboots verbessern, um den sich entwickelnden Bedürfnissen der Semiconductor-Herstellung gerecht zu werden. Wir freuen uns darauf, Ihr langfristiger Partner in China zu werden. Feel Free, uns zu erkundigen.
Ultra reines Siliziumcarbidpulver für das Kristallwachstum

Ultra reines Siliziumcarbidpulver für das Kristallwachstum

Vetek Semiconductor ist ein professioneller Hersteller und Lieferant, der sich der Bereitstellung von hochwertigem Ultra-Silizium-Carbidpulver für das Kristallwachstum widmet. Mit einer Reinheit von bis zu 99,999 Gew .-% WT und extrem niedrigen Verunreinigungsniveaus von Stickstoff, Bor, Aluminium und anderen Verunreinigungen ist es speziell entwickelt, um die semi-insidenten Eigenschaften von Siliziumcarbide mit hoher Purity-Silizium zu verbessern. Willkommen bei Fragen und kooperieren Sie mit uns!
Als professioneller Hersteller und Lieferant in China haben wir unsere eigene Fabrik. Unabhängig davon, ob Sie maßgeschneiderte Dienste benötigen, um die spezifischen Bedürfnisse Ihrer Region zu erfüllen oder erweiterte und langlebige Siliziumkarbidkeramik in China hergestellt zu werden, können Sie uns eine Nachricht hinterlassen.
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