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Siliziumkarbidkeramik

VeTek Semiconductor ist Ihr innovativer Partner im Bereich der Halbleiterverarbeitung. Mit unserem umfangreichen Portfolio an Materialkombinationen aus Siliziumkarbidkeramik in Halbleiterqualität, Komponentenfertigungskapazitäten und anwendungstechnischen Dienstleistungen können wir Ihnen bei der Bewältigung bedeutender Herausforderungen helfen. Technische Siliziumkarbidkeramiken werden aufgrund ihrer außergewöhnlichen Materialleistung häufig in der Halbleiterindustrie eingesetzt. Die hochreine Siliziumkarbidkeramik von VeTek Semiconductor wird häufig im gesamten Zyklus der Halbleiterherstellung und -verarbeitung eingesetzt.


DIFFUSION & LPCVD-VERARBEITUNG

VeTek Semiconductor bietet technische Keramikkomponenten, die speziell für Batch-Diffusions- und LPCVD-Anforderungen entwickelt wurden, darunter:

• Leitbleche und Halter
• Einspritzdüsen
• Liner und Prozessrohre
• Cantilever-Paddel aus Siliziumkarbid
• Waffelschiffchen und Sockel


ÄTZPROZESSKOMPONENTEN

Minimieren Sie Verunreinigungen und außerplanmäßige Wartungsarbeiten mit hochreinen Komponenten, die für die Anforderungen der Plasmaätzverarbeitung entwickelt wurden, darunter:

Fokusringe

Düsen

Schilde

Duschköpfe

Fenster / Deckel

Andere benutzerdefinierte Komponenten


SCHNELLE THERMISCHE VERARBEITUNG UND EPITAXIALE PROZESSKOMPONENTEN

VeTek Semiconductor bietet fortschrittliche Materialkomponenten, die auf Hochtemperatur-Wärmeverarbeitungsanwendungen in der Halbleiterindustrie zugeschnitten sind. Diese Anwendungen umfassen RTP, Epi-Prozesse, Diffusion, Oxidation und Glühen. Unsere technische Keramik ist so konzipiert, dass sie thermischen Schocks standhält und eine zuverlässige und konstante Leistung liefert. Mit den Komponenten von VeTek Semiconductor können Halbleiterhersteller eine effiziente und qualitativ hochwertige thermische Verarbeitung erreichen und so zum Gesamterfolg der Halbleiterproduktion beitragen.

• Diffusoren

• Isolatoren

• Suszeptoren

• Andere kundenspezifische thermische Komponenten


Physikalische Eigenschaften von rekristallisiertem Siliziumkarbid
Eigentum Typischer Wert
Arbeitstemperatur (°C) 1600°C (mit Sauerstoff), 1700°C (reduzierende Umgebung)
SiC / SiC-Gehalt > 99,96 %
Si / Freier Si-Gehalt < 0,1 %
Schüttdichte 2,60–2,70 g/cm3
Scheinbare Porosität < 16 %
Kompressionsstärke > 600 MPa
Kaltbiegefestigkeit 80-90 MPa (20°C)
Warmbiegefestigkeit 90–100 MPa (1400 °C)
Wärmeausdehnung bei 1500 °C 4,70 · 10-6/°C
Wärmeleitfähigkeit bei 1200 °C 23 W/m·K
Elastizitätsmodul 240 GPa
Thermoschockbeständigkeit Extrem gut


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Ultra reines Siliziumcarbidpulver für das Kristallwachstum

Ultra reines Siliziumcarbidpulver für das Kristallwachstum

Vetek Semiconductor ist ein professioneller Hersteller und Lieferant, der sich der Bereitstellung von hochwertigem Ultra-Silizium-Carbidpulver für das Kristallwachstum widmet. Mit einer Reinheit von bis zu 99,999 Gew .-% WT und extrem niedrigen Verunreinigungsniveaus von Stickstoff, Bor, Aluminium und anderen Verunreinigungen ist es speziell entwickelt, um die semi-insidenten Eigenschaften von Siliziumcarbide mit hoher Purity-Silizium zu verbessern. Willkommen bei Fragen und kooperieren Sie mit uns!
Als professioneller Hersteller und Lieferant in China haben wir unsere eigene Fabrik. Unabhängig davon, ob Sie maßgeschneiderte Dienste benötigen, um die spezifischen Bedürfnisse Ihrer Region zu erfüllen oder erweiterte und langlebige Siliziumkarbidkeramik in China hergestellt zu werden, können Sie uns eine Nachricht hinterlassen.
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