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Siliziumkarbidbeschichtung

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SiC-beschichteter Stützring

SiC-beschichteter Stützring

Vetek Semiconductor ist ein professioneller China -Hersteller und Lieferant, der hauptsächlich sicbeschichtete Stützringe, CVD -Siliziumcarbid (sic) -beschichtungen, Tantal -Carbid (TAC) -Lehbeschichtungen (TAC) produziert. Wir sind bestrebt, perfekte technische Unterstützung und ultimative Produktlösungen für die Halbleiterindustrie zu bieten und uns willkommen zu kontaktieren.
Wafer Chuck

Wafer Chuck

Wafer Chunk Ein Waferklemmwerkzeug im Halbleiterprozess und wird in PVD-, CVD-, Ätz- und anderen Prozess häufig verwendet. Mit interner Fertigung, wettbewerbsfähiger Preise und robuster F & E-Unterstützung übertrifft Vetek Semiconductor in OEM/ODM-Diensten für Präzisionskomponenten.
ALD Planetary Susceptor

ALD Planetary Susceptor

ALD -Prozess bedeutet Atomschicht -Epitaxieprozess. Die Hersteller von Semiconductor- und ALD -Systemen haben sic -beschichtete ALD -Planeten anfällig entwickelt und hergestellt, die den hohen Anforderungen des ALD -Prozesses entsprechen, um den Luftstrom gleichmäßig über das Substrat zu verteilen. Gleichzeitig sorgt unsere CVD -SIC -Beschichtung mit hoher Reinheit in dem Prozess Reinheit. Willkommen, um die Zusammenarbeit mit uns zu besprechen.
Suszeptor mit SiC-Beschichtung

Suszeptor mit SiC-Beschichtung

Vetek Semiconductor konzentriert sich auf die Forschung und Entwicklung sowie die Industrialisierung von CVD-SiC-Beschichtungen und CVD-TaC-Beschichtungen. Am Beispiel des SiC-Beschichtungssuszeptors wird das Produkt mit hoher Präzision, dichter CVD-SIC-Beschichtung, hoher Temperaturbeständigkeit und starker Korrosionsbeständigkeit hochverarbeitet. Ihre Anfrage an uns ist willkommen.
CVD -SIC -Block für SIC -Kristallwachstum

CVD -SIC -Block für SIC -Kristallwachstum

CVD -SIC -Block für das SIC -Kristallwachstum ist ein neuer Rohstoff mit hoher Reinheit, der von Vetek Semiconductor entwickelt wurde. Es verfügt über ein hohes Eingangs-Output-Verhältnis und kann hochwertige, großgröße Silizium-Carbid-Einzelkristalle anbauen. Willkommen, um technische Probleme zu besprechen.
SIC -Kristallwachstum Neue Technologie

SIC -Kristallwachstum Neue Technologie

Vetek Semiconductor's Ultrahoh Purity Silicon Carbid (SIC), das durch chemische Dampfabscheidung (CVD) gebildet wird, wird empfohlen, als Ausgangsmaterial zum Anbau von Siliziumkarbidkristallen durch physikalischen Dampftransport (PVT) verwendet zu werden. In der neuen Technologie von SIC -Kristallwachstum wird das Quellmaterial in einen Tiegel geladen und auf einen Samenkristall untermauert. Verwenden Sie die CVD-Sic-Blöcke mit hoher Reinheit als Quelle für den Anbau von sic-Kristallen. Willkommen, um eine Partnerschaft mit uns aufzubauen.
Als professioneller Siliziumkarbidbeschichtung Hersteller und Lieferant in China verfügen wir über eine eigene Fabrik. Egal, ob Sie maßgeschneiderte Dienstleistungen benötigen, um den spezifischen Anforderungen Ihrer Region gerecht zu werden, oder fortschrittliche und langlebige Produkte aus China kaufen möchten, Sie können uns eine Nachricht hinterlassen.
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