Siliziumpodest

Vetek Semiconductor Silicon Susceptor ist ein reines Siliziumprodukt, das die Temperaturstabilität im thermischen Reaktorrohr während der Verarbeitung von Siliziumwafern gewährleistet und wodurch die Wirkungsgrad der Wärmeisolierung verbessert wird. Die Verarbeitung von Siliziumwafer ist ein äußerst präziser Prozess, und die Temperatur spielt eine entscheidende Rolle, die direkt die Dicke und Gleichmäßigkeit des Siliziumwaferfilms beeinflusst.

Der Siliziumsockel befindet sich im unteren Teil des thermischen Reaktorrohrs des Ofens und trägt das SiliziumWaferträgerwährend eine wirksame thermische Isolierung bereitgestellt wird. Am Ende des Prozesses kühlt es allmählich zusammen mit dem Silizium -Waferträger auf die Umgebungstemperatur ab.

Kernfunktionen und Vorteile der Siliziumsockel von VeTek Semiconductor:

Bieten Sie eine stabile Unterstützung, um die Prozessgenauigkeit sicherzustellen

Das Silizium-Sockel bietet eine stabile und sehr hitzebeständige Stützplattform für das Siliziumboot in der High-Temperature-Ofenkammer. Diese Stabilität kann das Siliziumboot effektiv daran hindern, sich während der Verarbeitung zu verschieben oder zu neigen, wodurch die Einheitlichkeit des Luftstroms oder die Zerstörung der Temperaturverteilung vermieden wird, wodurch eine hohe Präzision und Konsistenz des Prozesses sichergestellt wird.

Verbessern Sie die Temperaturgleichmäßigkeit im Ofen und verbessern Sie die Waferqualität

Durch die Isolierung des Siliziumboots aus direktem Kontakt mit dem Ofenboden oder der Wand kann die Siliziumbasis den durch Leitung verursachten Wärmeverlust verringern und damit eine gleichmäßigere Temperaturverteilung im thermischen Reaktionsrohr erzielen. Diese gleichmäßige thermische Umgebung ist wichtig, um eine Gleichmäßigkeit der Waferdiffusion und Oxidschicht zu erreichen und die Gesamtqualität des Wafers erheblich zu verbessern.

Optimieren Sie die Wärmedämmleistung und senken Sie den Energieverbrauch

Die hervorragenden Wärmeisolierungseigenschaften des Siliziumbasismaterials tragen dazu bei, den Wärmeverlust in der Ofenkammer zu verringern und so die Energieeffizienz des Prozesses erheblich zu verbessern. Dieser effiziente Mechanismus des thermischen Managements beschleunigt nicht nur den Zyklus der Heizung und Kühlung, sondern reduziert auch den Energieverbrauch und die Betriebskosten, was eine wirtschaftlichere Lösung für die Herstellung von Halbleiter bietet.

Spezifikationen des VeTek Semiconductor Siliziumsockels

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