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CVD -SIC -Graphitzylinder
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CVD -SIC -Graphitzylinder

Der CVD -Graphitzylinder von Vetek Semiconductor ist in Halbleiterausrüstung zentral und dient als Schutzschild innerhalb von Reaktoren, um die internen Komponenten in hohen Temperatur- und Druckeinstellungen zu schützen. Es schützt effektiv gegen Chemikalien und extreme Wärme und bewahrt die Integrität der Geräte. Mit außergewöhnlicher Verschleiß- und Korrosionsbeständigkeit sorgt dies für die Langlebigkeit und Stabilität in herausfordernden Umgebungen. Die Verwendung dieser Abdeckungen verbessert die Leistung der Halbleitervorrichtung, verlängert die Lebensdauer der Lebensdauer und mindert Wartungsanforderungen und Schadensrisiken.

Der CVD -Graphitzylinder von Vetek Semiconductor spielt eine wichtige Rolle bei der Halbleiterausrüstung. Es wird normalerweise als Schutzabdeckung innerhalb des Reaktors verwendet, um Schutz für die inneren Komponenten des Reaktors in hohen Temperatur- und Hochdruckumgebungen zu schützen. Diese Schutzhülle kann die Chemikalien und hohen Temperaturen im Reaktor effektiv isolieren und verhindern, dass sie die Ausrüstung schädigen. Gleichzeitig weist der CVD-SIC-Graphitzylinder auch eine hervorragende Verschleiß- und Korrosionsbeständigkeit auf, sodass die Stabilität und langfristige Haltbarkeit in harten Arbeitsumgebungen aufrechterhalten werden kann. Durch die Verwendung von Schutzabdeckungen dieses Materials kann die Leistung und Zuverlässigkeit von Halbleitergeräten verbessert werden, wodurch die Lebensdauer des Geräts und die Verringerung des Wartungsbedarfs und das Risiko von Schäden verlängert werden.


CVD -SIC -Graphitzylinder wird in Halbleiterausrüstung häufig verwendet, um die folgenden Schlüsselbereiche abzudecken:


Wärmebehandlungsausrüstung

Es dient als Schutzabdeckung oder Hitzeschild in Wärmebehandlungsgeräten. Dies schützt nicht nur interne Komponenten vor Schäden mit hoher Temperatur, sondern bietet auch einen hervorragenden hohen Temperaturwiderstand.


CVD -Reaktoren (Chemische Dampfablagerung)

Bei CVD -Reaktoren wirkt es als Schutzabdeckung für die chemische Reaktionskammer. Es isoliert effektiv Reaktionssubstanzen und bietet eine gute Korrosionsbeständigkeit.


Ätzende Umgebungen

Dank seiner herausragenden Korrosionsbeständigkeit kann der CVD -SIC -Graphitzylinder in chemisch korrosiven Umgebungen während der Herstellung von Halbleiter verwendet werden, wie z. B. Umgebungen mit korrosiven Gasen oder Flüssigkeiten.


Halbleiterwachstumsgeräte

Es fungiert als Schutzabdeckungen oder andere Komponenten in Halbleiterwachstumsgeräten. Durch den Schutz der Geräte vor hohen Temperaturen, chemischen Korrosion und Verschleiß sorgt sie für die Stabilität und die lange Zuverlässigkeit der Ausrüstung.


CVD -SIC -Graphitzylinder charakterisiert durch hohe Temperaturstabilität, Korrosionsbeständigkeit, hervorragende mechanische Eigenschaften und gute thermische Leitfähigkeit, erleichtert eine effizientere Wärmeableitung in Halbleitergeräten, wodurch die Stabilität und Leistung der Geräte aufrechterhalten wird.




Grundlegende physikalische Eigenschaften der CVD -sic -Beschichtung:

CVD SIC COATING FILM CRYSTAL STRUCTURE

Grundlegende physikalische Eigenschaften der CVD -sic -Beschichtung
Eigentum Typischer Wert
Kristallstruktur Polykristalline FCC -β -Phasen -FCC -β -Phase, hauptsächlich (111) orientiert
Dichte 3,21 g/cm³
Härte 2500 Vickers Härte (500 g Last)
Körnung 2 ~ 10 mm
Chemische Reinheit 99,99995%
Wärmekapazität 640 J · kg-1· K-1
Sublimationstemperatur 2700 ℃
Biegerstärke 415 MPa RT 4-Punkte
Young's Modul 430 GPA 4PT Bend, 1300 ℃
Wärmeleitfähigkeit 300W · m-1· K-1
Wärmeausdehnung (CTE) 4,5 × 10-6K-1


Produktionsläden:

VeTek Semiconductor Production Shop


Überblick über die Semiconductor Chip Epitaxy Industry -Kette:

Overview of the semiconductor chip epitaxy industry chain


Hot-Tags: CVD SiC Graphite Cylinder
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