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Vetekemicon SIC-Waferboote werden in kritischen Hochtemperaturprozessen bei der Herstellung von Halbleiter häufig eingesetzt und dienen als zuverlässige Träger für Oxidations-, Diffusions- und Glühprozesse für integrierte Kreisläufe auf Siliziumbasis. Sie zeichnen sich auch im Halbleitersektor der dritten Generation aus und eignen sich perfekt für anspruchsvolle Prozesse wie epitaxiale Wachstum (EPI) und metallorganische chemische Dampfablagerung (MOCVD) für SIC- und GaN-Stromversorgungsgeräte. Sie unterstützen auch die Hochtemperaturherstellung hocheffizienter Solarzellen in der Photovoltaikindustrie. Ich freue mich auf Ihre weitere Beratung.

Der CVD SIC Coated Graphit-Duschkopf von Vetekememon ist eine Hochleistungskomponente, die speziell für die Prozesse zur Ablagerung des Halbleiterchemikas Dampf (CVD) ausgelegt ist. Dieser Duschkopf wird aus hochreinigem Graphit hergestellt und mit einer Siliziumcarbidbeschichtung (SIC) für chemische Dampfablagerung (CVD) geschützt und bietet herausragende Haltbarkeit, thermische Stabilität und Widerstand gegen korrosive Prozessgase. Ich freue mich auf Ihre weitere Beratung.

Der Quarzduschkopf, auch als Quarzgasverteilungsplatte bezeichnet, ist eine kritische Komponente, die bei Ablagerungsprozessen mit Halbleiterdünnfilmableitungen wie CVD (chemische Dampfabscheidung), PECVD (Plasma-verbesserter CVD) und Ald (Atomschichtablagerung) verwendet wird. Diese Komponente besteht aus einem fusionierten Quarz mit hohem Purity und sorgt für eine extrem niedrige Kontamination und eine hervorragende thermische Stabilität, wodurch eine präzise Gasabgabe und ein einheitliches Filmwachstum über die Waferoberfläche ermöglicht werden. Ich freue mich auf Ihre weitere Beratung.

Unsere TAC-beschichteten Graphit-Führungsringe sind Präzisionskernkomponenten für die Herstellung von Halbleiter-Wafer. Sie verfügen über ein hochreines Graphit-Substrat, das mit einer Verschleiß-resistenten und chemisch inerten Tantal-Carbid-Beschichtung (TAC) beschichtet ist. Entwickelt für anspruchsvolle Prozesse wie epitaxiale Ablagerung und Plasma -Radierung sorgen sie für eine präzise Waferausrichtung und -stabilität, kontrollieren die Kontamination effektiv und verlängern die Lebensdauer der Komponenten erheblich. Vetekemicon bietet Anpassungsdienste an, um Ihren Geräten und Prozessanforderungen perfekt zu entsprechen.

Der Vetekememon Semiconductor Quartz Screen ist eine wichtige Komponente für metallorganische chemische Dampfabscheidungssysteme (MOCVD) und spielt eine entscheidende Rolle bei der Optimierung von Dünnfilmwachstumsprozessen. Auf dieser Produktdetail-Seite werden Vetekemicon's hochreinheitliche Quarzbildschirme hervorgehoben, um die Einheitlichkeit, Reinheit und Wartungseffizienz von MOCVD-Geräten zu verbessern.

Hochreinheit Quarz Crucible ist eine wesentliche Kernkomponente bei fortschrittlichen Halbleiterherstellungsprozessen, insbesondere für Anwendungen, die extrem hohe thermische Stabilität, chemische Reinheit und dimensionale Genauigkeit erfordern. Vetekemicon bietet überlegene Quarzkreuzer mit hoher Reinheit, die den extremen Anforderungen von Halbleiterprozessen gerecht werden sollen.