SIC -Beschichtungssammler unten

Vetek Semiconductor ist der Hersteller, der sich für eine hohe Qualität verpflichtetCVD -TAC -Beschichtungund CVD SIC Coating Collector Bottom und arbeiten eng mit Aixtron -Geräten zusammen, um den Bedürfnissen unserer Kunden zu erfüllen. Egal, ob wir in der Prozessoptimierung oder in der Entwicklung neuer Produkte sind, wir sind bereit, Ihnen technische Unterstützung zu bieten und alle Fragen zu beantworten, die Sie möglicherweise haben.

Produktkernfunktion

Prozessstabilitätsgarantie

Temperaturgradientenregelung: ± 1.5℃/cm@1200℃

Durchflussfeldoptimierung: Das spezielle Kanalkonstruktion macht die Gleichmäßigkeit der Reaktionsgasverteilung bis zu 92,6%

Ausrüstungsschutzmechanismus

Doppelter Schutz:

Thermalschockpuffer: Stand der schnellen Temperaturänderung von 10 ℃/s standhalten

Partikelabfangen: Einfangen> 0,3 μm Sedimentpartikel

Im Bereich der modernen Technologie

Ganze Prozessqualitätskontrolle

Produktionsverfolgbarkeitssystem

Rohstoffquelle: Tokai/Toyo Graphit aus Japan, SGL Graphit aus Deutschland

Digitale Zwillingsüberwachung: Jede Komponente ist an eine unabhängige Prozessparameterdatenbank abgestimmt

Anwendungsszenario:

Halbleiterherstellung der dritten Generation

Szenario: 6-Zoll-SIC-Epitaxialwachstum (100-150 μm Dickekontrolle)

Kompatibler Modell: Aixtron G5 WW/Crius II

Durch die Verwendung von Aixtron SIC Coated Collector Top, Collector Center und SIC Coated Collector können das thermische Management und den chemischen Schutz bei Halbleiterherstellungsprozessen erreicht werden, die Filmwachstumsumgebung kann optimiert werden und die Qualität und Konsistenz des Films kann verbessert werden. Die Kombination dieser Komponenten in Aixtron -Geräten gewährleistet stabile Prozessbedingungen und eine effiziente Halbleiterproduktion.

SEM -Daten von CVD SIC -Film