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Siliziumkarbidbeschichtung

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Siliziumkarbid-Trägerplatte für die LED-Ätzung

Siliziumkarbid-Trägerplatte für die LED-Ätzung

Die Veteksemicon-Siliziumkarbid-Trägerplatte für die LED-Ätzung wurde speziell für die Herstellung von LED-Chips entwickelt und ist ein zentrales Verbrauchsmaterial im Ätzprozess. Es besteht aus präzisionsgesintertem, hochreinem Siliziumkarbid und bietet eine außergewöhnliche chemische Beständigkeit sowie Dimensionsstabilität bei hohen Temperaturen und widersteht effektiv Korrosion durch starke Säuren, Basen und Plasma. Seine geringen Kontaminationseigenschaften sorgen für hohe Erträge bei LED-Epitaxiewafern, während seine Haltbarkeit, die weit über die herkömmlicher Materialien hinausgeht, Kunden dabei hilft, die Gesamtbetriebskosten zu senken, was es zu einer zuverlässigen Wahl für die Verbesserung der Effizienz und Konsistenz des Ätzprozesses macht.
Massiver SiC-Fokusring

Massiver SiC-Fokusring

Der solide SiC-Fokusring von Veteksemi verbessert die Gleichmäßigkeit des Ätzens und die Prozessstabilität erheblich, indem er das elektrische Feld und den Luftstrom am Waferrand präzise steuert. Es wird häufig in Präzisionsätzprozessen für Silizium, Dielektrika und Verbindungshalbleitermaterialien eingesetzt und ist eine Schlüsselkomponente zur Gewährleistung der Massenproduktionsausbeute und eines langfristig zuverlässigen Gerätebetriebs.
CVD sic beschichtete Graphit -Duschkopf

CVD sic beschichtete Graphit -Duschkopf

Der CVD SIC Coated Graphit-Duschkopf von Vetekememon ist eine Hochleistungskomponente, die speziell für die Prozesse zur Ablagerung des Halbleiterchemikas Dampf (CVD) ausgelegt ist. Dieser Duschkopf wird aus hochreinigem Graphit hergestellt und mit einer Siliziumcarbidbeschichtung (SIC) für chemische Dampfablagerung (CVD) geschützt und bietet herausragende Haltbarkeit, thermische Stabilität und Widerstand gegen korrosive Prozessgase. Ich freue mich auf Ihre weitere Beratung.
Silizium -Carbidbeschichtung Waferhalter

Silizium -Carbidbeschichtung Waferhalter

Der von Vetekememon in fortgeschrittene Halbleiterprozesse wie MOCVD, LPCVD und Hochtemperature Annealing. Mit einer gleichmäßigen CVD-SIC-Beschichtung sorgt dieser Waferhalter für eine außergewöhnliche thermische Leitfähigkeit, chemische Inertheit und mechanische Festigkeit-wesentlich für die Verarbeitung mit kontaminationsfreier, hochrangiger Wafer.
Sic Randring

Sic Randring

Vetekemicon High-Purity-SIC-Kantenringe, speziell für Halbleiter-Ätzgeräte ausgelegt, verfügen
Sic beschichtete Waferträger zum Ätzen

Sic beschichtete Waferträger zum Ätzen

Als führender chinesischer Hersteller und Lieferant von Siliziumcarbidbeschichtungsprodukten spielt der sic -beschichtete Waferträger von Vetekememon zum Ätzen eine unersetzliche Kernrolle im Ätzenprozess mit hervorragender Hochtemperaturstabilität, herausragender Korrosionsbeständigkeit und hoher thermischer Leitfähigkeit.
Als professioneller Hersteller und Lieferant in China haben wir unsere eigene Fabrik. Unabhängig davon, ob Sie maßgeschneiderte Dienste benötigen, um die spezifischen Bedürfnisse Ihrer Region zu erfüllen oder erweiterte und langlebige Siliziumkarbidbeschichtung in China hergestellt zu werden, können Sie uns eine Nachricht hinterlassen.
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