VETEK feiert Richtfest der neuen Halbleiterfertigungsbasis

Erweiterung der erweiterten SiC-, TaC- und PyC-Beschichtungskapazitäten für die Halbleiterindustrie der nächsten Generation

Im Jahr 2025 feierte VETEK offiziell das Richtfest seiner neuen Halbleiterfertigungsbasis und markierte damit einen wichtigen Meilenstein in der Expansionsstrategie des Unternehmens für fortschrittliche Halbleitermaterialien und Beschichtungstechnologien.

Regierungsvertreter, strategische Partner, Bauteams und VETEK-Mitarbeiter kamen zusammen, um diesen wichtigen Moment mitzuerleben und den schnellen Fortschritt der neuen Anlage zu feiern.

Als der letzte Betonabschnitt gegossen wurde, erreichte die Zeremonie unter Applaus und feierlichen Saluten ihren Höhepunkt – was nicht nur den Abschluss einer Bauphase symbolisierte, sondern auch den Beginn eines neuen Kapitels für die zukünftige Entwicklung von VETEK.

Beschleunigung der Produktionskapazität für Halbleitermaterialien

Die neue Produktionsbasis ist ein wichtiges strategisches Projekt für VETEK als Reaktion auf die schnell wachsende weltweite Nachfrage nach Halbleiterprozessmaterialien und Hochtemperaturbeschichtungslösungen.

Die Anlage wird die Fertigungs- und Konstruktionskapazitäten von VETEK in den folgenden Bereichen erheblich verbessern:

• CVD-Beschichtung aus Siliziumkarbid (SiC).

• CVD-Tantalcarbid (TaC)-Beschichtung

• Beschichtung mit pyrolytischem Kohlenstoff (PyC).

• Massives Siliziumkarbid (Festes SiC)

• Hochreine Graphitkomponenten

• Halbleiter-Wärmefeldmaterialien

• Präzisionsgefertigte Halbleiterteile

Sobald die neue Basis vollständig betriebsbereit ist, wird sie die integrierten Produktionskapazitäten von VETEK weiter stärken und umfasst:

• Graphitreinigung

• Präzise CNC-Bearbeitung

• Fortschrittliche CVD-Beschichtung

• Reinigung in Halbleiterqualität

• Qualitätsprüfung und Zuverlässigkeitsprüfung

• Wärmefelddesign und -optimierung

Unterstützung wichtiger Halbleiterprozesse

Die Produkte von VETEK werden häufig in kritischen Halbleiterfertigungsprozessen eingesetzt, darunter:

• SiC-Epitaxie

• Siliziumepitaxie

• MOCVD-Prozesse

• Kristallwachstumssysteme

• RTP- und Ätzanwendungen

• Diffusions- und Oxidationsprozesse

Das Unternehmen bietet maßgeschneiderte Halbleiterkomponenten an, die mit den wichtigsten Industrieplattformen kompatibel sind, darunter:

• Aixtron

• Veeco

• AMEC

• LPE

• ASM

• Angewandte Materialien (AMAT)

• Newflare

Mit dem rasanten Wachstum von Halbleitern der dritten Generation, Elektrofahrzeug-Stromversorgungsgeräten, KI-Infrastruktur und fortschrittlichen Energieanwendungen steigt die Nachfrage nach hochreinen Beschichtungsmaterialien und Wärmefeldkomponenten weltweit weiter an.

Fokus auf fortschrittliche Beschichtungstechnologien

VETEK investiert weiterhin stark in Beschichtungstechnologien der nächsten Generation, die für extreme Halbleiterfertigungsumgebungen entwickelt wurden.

CVD-SiC-Beschichtung

Die CVD-SiC-beschichteten Graphitprodukte von VETEK bieten:

• Hervorragende thermische Stabilität

• Hervorragende chemische Beständigkeit

• Geringe Partikelverschmutzung

• Hohe Reinheitsleistung

• Lange Lebensdauer unter rauen Prozessbedingungen

Diese Produkte werden häufig verwendet für:

• Epitaxie-Suszeptoren

• Waferträger

• Fasssuszeptoren

• Halbmondteile

• Prozesskomponenten für die SiC/GaN-Epitaxie

TaC-Beschichtung für Ultrahochtemperaturanwendungen

Als eine der wichtigsten Entwicklungsrichtungen des Unternehmens ist die TaC-Beschichtungstechnologie von VETEK für Ultrahochtemperatur-Kristallwachstumsumgebungen von über 2000 °C konzipiert.

Im Vergleich zu herkömmlichen SiC-Beschichtungen bieten TaC-Beschichtungen:

• Höhere thermische Stabilität

• Bessere Korrosionsschutzleistung

• Hervorragende Beständigkeit gegen Graphitverunreinigungen

• Verbesserte Stabilität der Kristallwachstumsumgebung

TaC-Beschichtungsprodukte gewinnen zunehmend an Bedeutung in:

• SiC-Einkristallwachstum

• PVT-Systeme

• Fortschrittliche thermische Halbleiterfelder

Beschichtung mit pyrolytischem Kohlenstoff (PyC).

VETEK bietet auch hochdichte PyC-Beschichtungslösungen mit folgenden Merkmalen:

• Dichte, porenfreie Oberflächen

• Hervorragende Temperaturwechselbeständigkeit

• Hohe Vakuumkompatibilität

• Ultrahochreine Leistung

PyC-Beschichtungen werden häufig verwendet in:

• Thermische Halbleiterverarbeitung

• Kristallwachstumsöfen

• Hochtemperatur-Vakuumsysteme

Die Zukunft der Halbleitermaterialien gestalten

Während der Zeremonie betonte das Projektbauteam sein Engagement für die Einhaltung höchster technischer und Qualitätsstandards, um eine reibungslose Lieferung der Anlage zu gewährleisten.

Die neue Produktionsbasis repräsentiert die „VETEK-Geschwindigkeit“ in der fortgeschrittenen Industrialisierung von Halbleitermaterialien und zeigt die Entschlossenheit des Unternehmens, technologische Innovationen und globale Lieferfähigkeiten zu beschleunigen.

Mit Blick auf die Zukunft wird sich VETEK weiterhin auf Folgendes konzentrieren:

• Fortschrittliche Halbleiterbeschichtungstechnologien

• Hochreine Materialinnovation

• Thermische Feldtechnik

• Halbleiterlokalisierung und Zuverlässigkeit der Lieferkette

Das Unternehmen ist weiterhin bestrebt, die Entwicklung der globalen Halbleiterindustrie durch kontinuierliche technologische Innovation und hochwertige Fertigung zu unterstützen.

Ein neuer Meilenstein, eine neue Reise

Das Richtfest markiert einen neuen Startpunkt für VETEK.

Mit der Vision, ein führender Anbieter fortschrittlicher Halbleitermaterialien zu werden, wird die neue Produktionsbasis das zukünftige Wachstum von VETEK weiter vorantreiben und seine Position auf dem globalen Markt für Halbleitermaterialien stärken.

Während sich die Halbleiterindustrie weiter in Richtung höherer Temperaturen, größerer Wafergrößen und strengerer Reinheitsanforderungen weiterentwickelt, ist VETEK bereit, gemeinsam mit Kunden weltweit in die nächste Generation der Halbleiterfertigung vorzudringen.