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Tantal -Carbidbeschichtungsunterstützung
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Tantal -Carbidbeschichtungsunterstützung

Als professionelles Produkthersteller und Fabrik von Tantal -Carbidbeschichtung in China wird in China in China die Unterstützung von Vetek Semiconductor Tantal -Carbidbeschichtung in der Regel zur Oberflächenbeschichtung von Strukturkomponenten oder Stützkomponenten bei Halbleiterausrüstung verwendet, insbesondere zum Schutz der Oberflächengeräte von Schlüsselausrüstungskomponenten bei Semikonduktorherstellung wie CVD und PVD. Begrüßen Sie Ihre weitere Beratung.

Die Hauptfunktion des Vetek -HalbleitersTantal -Carbid (TAC) -MehneUnterstützung ist, die zu verbessernWärmefestigkeit, Verschleißfestigkeit und Korrosionsbeständigkeitdes Substrats durch Beschichtung einer Schicht Tantal -Carbidbeschichtung, um die Genauigkeit und Zuverlässigkeit des Prozesses zu verbessern und die Lebensdauer der Komponenten zu verlängern. Es handelt sich um ein Hochleistungsbeschichtungsprodukt, das im Bereich der Halbleiterverarbeitung verwendet wird.


Vetek Semiconductor's Tantal Carbid Coating -Anhänger hat eine MOHS -Härte von fast 9 ~ 10, die nur für Diamond ist. Es hat einen extrem starken Verschleißfestigkeit und kann die Oberflächenverschleiß und -wirkung während der Verarbeitung effektiv widerstehen, wodurch die Lebensdauer der Gerätekomponenten effektiv erweitert wird. In Kombination mit seinem hohen Schmelzpunkt von etwa 3880 ° C wird es häufig zur Beschichtung von Schlüsselkomponenten von Halbleiterausrüstung verwendet, wie z.


Aufgrund des extrem hohen Schmelzpunkts des Tantal -Carbids von etwa 3880 ° C bei Halbleiterverarbeitungsprozessen wie z.chemische Dampfabscheidung (CVD)UndPhysikalische Dampfabscheidung (PVD)Die TAC -Beschichtung mit starker hoher Temperaturresistenz und chemischer Korrosionsbeständigkeit kann die Gerätekomponenten effektiv schützen und Korrosion oder Beschädigung des Substrats in extremen Umgebungen verhindern, was einen effektiven Schutz für Hochtemperaturumgebungen in der Herstellung von Wafer bietet. Diese Funktion bestimmt auch, dass die Tantal -Carbid -Beschichtungsunterstützung von Vetek Semiconductor häufig für Ätzen und korrosive Prozesse verwendet wird.


Die Tantalum -Carbid -Beschichtungsunterstützung hat auch die Funktion der Reduzierung der Partikelkontamination. Während der Waferverarbeitung erzeugt die Oberflächenverschleiß normalerweise eine Partikelkontamination, die die Produktqualität des Wafers beeinflusst. Die extremen Produkteigenschaften von TAC Coating von nahezu 9 bis 10 MOHS-Härte können diesen Verschleiß effektiv verringern und damit die Erzeugung von Partikeln verringern. In Kombination mit der hervorragenden thermischen Leitfähigkeit der TAC -Beschichtung (ca. 21 W/m · k) kann sie unter hohen Temperaturbedingungen eine gute thermische Leitfähigkeit aufrechterhalten, wodurch die Ausbeute und Konsistenz der Waferherstellung erheblich verbessert werden.


Die wichtigsten TAC -Beschichtungsprodukte von Vetek Semiconductor sind enthaltenTAC -Beschichtungsheizung, CVD TAC -Beschichtungs Tiegel, TAC -BeschichtungsrotationssuszeptorUndTAC -Beschichtung Ersatzteilusw. und unterstützen maßgeschneiderte Produktdienste. Vetek Semiconductor ist bestrebt, hervorragende Produkte und technische Lösungen für die Halbleiterindustrie bereitzustellen. Wir hoffen aufrichtig, Ihr langfristiger Partner in China zu werden.


Tantal-Carbid (TAC) -Beschicht auf einem mikroskopischen Querschnitt:


Tantalum carbide (TaC) coating on a microscopic cross-section 1Tantalum carbide (TaC) coating on a microscopic cross-section 2Tantalum carbide (TaC) coating on a microscopic cross-section 3Tantalum carbide (TaC) coating on a microscopic cross-section 4


Grundlegende physikalische Eigenschaften der CVD -TAC -Beschichtung


Physikalische Eigenschaften der TAC -Beschichtung
Dichte
14,3 (g/cm³)
Spezifischer Emissionsvermögen
0.3
Wärmeleitkoeffizient
6.3*10-6/K
Härte (HK)
2000HK
Widerstand
1 × 10-5Ohm*cm
Wärmestabilität
<2500 ℃
Graphitgröße ändert sich
-10 ~ -20um
Beschichtungsdicke
≥ 20 um einen typischen Wert (35 € ± 10um)

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