Was ist CVD-TAC-Beschichtung? - Veteksemi

Wie wir alle wussten,Tantalum Carbid (TAC)hat einen Schmelzpunkt von bis zu 3880°C, hohe mechanische Festigkeit, Härte, thermische Stoßwiderstand; Gute chemische Inertheit und thermische Stabilität gegenüber Ammoniak, Wasserstoff, Silizium-haltigem Dampf bei hohen Temperaturen.

Tantal-Carbidbeschichtung auf einem mikroskopischen Querschnitt

CVD-TAC-Beschichtung, chemische Gasphasenabscheidung (CVD) vonTantalcarbid (TaC)-Beschichtungist ein Prozess zur Bildung einer hohen Dichte und einer haltbaren Beschichtung auf einem Substrat (normalerweise Graphit). Diese Methode umfasst die Ablagerung von TAC auf die Oberfläche des Substrats bei hohen Temperaturen, was zu einer Beschichtung mit ausgezeichneter thermischer Stabilität und chemischer Resistenz führt.

Zu den Hauptvorteilen von CVD-TaC-Beschichtungen gehören:

● Extrem hohe thermische Stabilität: Die Tantalcarbid-Beschichtung hält Temperaturen über 2200 °C stand.

●  Chemische Beständigkeit: CVD -TAC -Beschichtung kann harte Chemikalien wie Wasserstoff, Ammoniak und Siliziumdampf wirksam widerstehen.

● starke Haftung: Die TAC-Beschichtung gewährleistet einen lang anhaltenden Schutz ohne Delaminierung.

●  Hohe Reinheit: Minimiert Verunreinigungen und macht es ideal für Halbleiteranwendungen.

Diese Beschichtungen eignen sich besonders für Umgebungen, die eine hohe Haltbarkeit und Resistenz gegen extreme Bedingungen erfordern, wie z.

In der industriellen Produktion, Graphit (Kohlenstoff-Kohlenstoff-Verbundstoff) Materialien, die mit einer TaC-Beschichtung beschichtet sind, ersetzen höchstwahrscheinlich herkömmliches hochreines Graphit, pBN-Beschichtung, SiC-Beschichtungsteile usw. Darüber hinaus hat TaC im Bereich der Luft- und Raumfahrt ein großes Potenzial für den Einsatz als Hochtemperatur-Antioxidationsmittel und Antiablationsbeschichtung und hat breite Anwendungsaussichten. Allerdings gibt es noch viele Herausforderungen, um die Herstellung einer dichten, gleichmäßigen, nicht abblätternden TaC-Beschichtung auf der Graphitoberfläche zu erreichen und die industrielle Massenproduktion zu fördern.

In diesem Prozess sind die Erforschung des Schutzmechanismus der Beschichtung, die Innovation des Produktionsprozesses und der Wettbewerb mit der höchsten ausländischen Ebene für die dritte Generation von entscheidender BedeutungHalbleiterkristallwachstum und Epitaxie.

VeTek Semiconductor ist ein professioneller chinesischer Hersteller von CVD-Tantalcarbid-Beschichtungsprodukten. Die Reinheit unserer TaC-Beschichtung liegt unter 5 ppm und kann die Kundenanforderungen erfüllen. Zu den wichtigsten CVD-TaC-beschichteten Produkten von VeTekSemi gehören CVD-TaC-Beschichtungstiegel, Waferträger mit CVD-TaC-Beschichtung, CVD -TAC -Beschichtenträger, CVD-TaC-Beschichtungsabdeckung,  CVD -TAC -Beschichtungsring. VeTek Semiconductor ist bestrebt, fortschrittliche Lösungen für verschiedene Beschichtungsprodukte für die Halbleiterindustrie bereitzustellen. VeTek Semiconductor hofft aufrichtig, Ihr langfristiger Partner in China zu werden.

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