Tantalcarbid-Beschichtung

VeTek Semiconductor ist ein führender Hersteller von Tantalcarbid-Beschichtungsmaterialien für die Halbleiterindustrie. Zu unserem Hauptproduktangebot gehören CVD-Tantalcarbid-Beschichtungsteile, gesinterte TaC-Beschichtungsteile für das SiC-Kristallwachstum oder den Halbleiterepitaxieprozess. VeTek Semiconductor hat ISO9001 bestanden und verfügt über eine gute Qualitätskontrolle. VeTek Semiconductor ist bestrebt, durch kontinuierliche Forschung und Entwicklung iterativer Technologien zum Innovator in der Tantalcarbid-Beschichtungsindustrie zu werden.

Die Hauptprodukte sindTaC-beschichteter Führungsring, CVD-TaC-beschichteter dreiblättriger Führungsring, Tantalkarbid-TaC-beschichteter Halbmond, CVD-TaC-beschichteter planetarischer epitaktischer SiC-Suszeptor, Tantalkarbid-Beschichtungsring, Mit Tantalkarbid beschichteter poröser Graphit, Rotationssuszeptor mit TaC-Beschichtung, Tantal-Karbid-Ring, Rotationsplatte mit TaC-Beschichtung, TaC-beschichteter Wafer-Suszeptor, TaC-beschichteter Deflektorring, CVD-TaC-Beschichtungsabdeckung, TaC-beschichtetes Spannfutterusw., die Reinheit liegt unter 5 ppm, kann die Kundenanforderungen erfüllen.

TaC-Beschichtungsgraphit wird hergestellt, indem die Oberfläche eines hochreinen Graphitsubstrats mit einer feinen Schicht Tantalkarbid durch ein proprietäres chemisches Gasphasenabscheidungsverfahren (CVD) beschichtet wird. Der Vorteil ist im folgenden Bild dargestellt:

Excellent properties of TaC coating graphite

Die Tantalcarbid (TaC)-Beschichtung hat aufgrund ihres hohen Schmelzpunkts von bis zu 3880 °C, ihrer hervorragenden mechanischen Festigkeit, Härte und Beständigkeit gegen Thermoschocks Aufmerksamkeit erregt, was sie zu einer attraktiven Alternative zu Epitaxieprozessen für Verbindungshalbleiter mit höheren Temperaturanforderungen macht. wie das Aixtron MOCVD-System und der LPE-SiC-Epitaxieprozess. Es findet auch eine breite Anwendung im SiC-Kristallwachstumsprozess mit der PVT-Methode.

Hauptmerkmale:

●Temperaturstabilität

●Ultrahohe Reinheit

●Beständigkeit gegen H2, NH3, SiH4, Si

●Beständigkeit gegen thermische Bestände

●Starke Haftung auf Graphit

●Schutzbeschichtung

● Größe bis 750 mm Durchmesser (Der einzige Hersteller in China erreicht diese Größe)

Anwendungen:

●Waffelträger

● Induktiver Heizsuszeptor

● Widerstandsheizelement

●Satellitenscheibe

●Duschkopf

●Führungsring

●LED-Epi-Empfänger

●Einspritzdüse

●Abdeckring

● Hitzeschild

Tantalcarbid (TaC)-Beschichtung auf einem mikroskopischen Querschnitt:

the microscopic cross-section of Tantalum carbide (TaC) coating

Parameter der VeTek Semiconductor Tantalcarbid-Beschichtung:

Physikalische Eigenschaften der TaC-Beschichtung
Dichte	14,3 (g/cm³)
Spezifischer Emissionsgrad	0.3
Wärmeausdehnungskoeffizient	6,3 10^-6/K
Härte (HK)	2000 HK
Widerstand	1×10^-5Ohm*cm
Thermische Stabilität	<2500℃
Graphitgrößenänderungen	-10~-20um
Beschichtungsdicke	≥20um typischer Wert (35um±10um)

TaC-Beschichtung EDX-Daten：

EDX data of TaC coating

Kristallstrukturdaten der TaC-Beschichtung:

Element	Atomprozent
	Pt. 1	Pt. 2	Pt. 3	Durchschnitt
C K	52.10	57.41	52.37	53.96
Ihnen	47.90	42.59	47.63	46.04

TaC-Beschichtungsfutter TaC-beschichtete Planetenscheibe
TaC-beschichtete Platte Rotationsplatte mit TaC-Beschichtung TaC-Beschichtungsempfänger Abdeckung mit CVD-TaC-Beschichtung CVD-TaC-Beschichtungsring TaC-Beschichtungsplatte

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TAC -Beschichtrohr

Das TAC -Beschichtungsröhrchen des Vetek Semiconductor ist eine Schlüsselkomponente für das erfolgreiche Wachstum von Siliziumcarbid -Einkristallen. Mit seiner Hochtemperaturbeständigkeit, chemischen Trägheit und hervorragender Leistung sorgt die Produktion hochwertiger Kristalle mit konsistenten Ergebnissen. Vertrauen Sie unseren innovativen Lösungen, um Ihren PVT -Methode zu verbessern. SIC -Kristallwachstumsprozess und hervorragende Ergebnisse.

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TAC -Beschichtung Ersatzteil

Die TAC-Beschichtung wird derzeit hauptsächlich in Prozessen wie ein Einkristallwachstum von Siliziumkarbid (PVT-Methode), epitaxiale Festplatte (einschließlich Siliziumkarbid-Epitaxie, LED-Epitaxie) usw. verwendet. In Kombination mit der guten Langzeitstabilität von TAC-Beschichtungsplatten. Wir freuen uns darauf, dass Sie unser langfristiger Partner werden.

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Gan über den EPI -Empfänger

Gan on SIC EPI SUPPORTOR spielt eine wichtige Rolle bei der Halbleiterverarbeitung durch seine hervorragende thermische Leitfähigkeit, Hochtemperaturverarbeitungsfähigkeit und chemische Stabilität und sorgt für die hohe Effizienz und materielle Qualität des GaN -epitaxialen Wachstumsprozesses. Vetek Semiconductor ist ein professioneller Hersteller von China von Gan bei SIC EPI SUPTORTOR. Wir freuen uns auf Ihre weitere Beratung aufrichtig.

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CVD -TAC -Beschichtenträger

Der CVD -TAC -Beschichtenträger ist hauptsächlich für den epitaxialen Prozess der Semiconductor -Herstellung konzipiert. Ultrahoch Schmelzpunkt des CVD-TAC-Beschichtungsträgers, ausgezeichnete Korrosionsbeständigkeit und herausragende thermische Stabilität bestimmen die Unentbehrlichkeit dieses Produkts im Halbleiter-Epitaxialprozess. Begrüßen Sie Ihre weitere Anfrage.

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TAC beschichtete Graphitunterstützung

Vetek Semiconductors TAC Coated Graphit Susceceptor verwendet eine chemische Dampfabscheidung (CVD), um eine tantale Carbidbeschichtung auf der Oberfläche von Graphitenteilen herzustellen. Dieser Prozess ist am reifsten und hat die besten Beschichtungseigenschaften. Der mit TAC beschichtete Graphit -Anfänger kann die Lebensdauer von Graphitkomponenten verlängern, die Migration von Graphitverunreinigungen hemmen und die Qualität der Epitaxie sicherstellen. Wir freuen uns auf Ihre Anfrage.

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TAC -Beschichtung Subser

Vetek Semiconductor präsentiert den TAC -Beschichtungssans Anfänger. Mit seiner außergewöhnlichen TAC -Beschichtung bietet dieser Suszeptor eine Vielzahl von Vorteilen, die ihn von herkömmlichen Lösungen unterscheiden. Integrieren in den vorhandenen Systemen nahtlos in den vorhandenen Systemen. Die zuverlässige Leistung und eine qualitativ hochwertige TAC-Beschichtung liefern durchweg außergewöhnliche Ergebnisse in SIC-Epitaxienprozessen. Wir sind bestrebt, Qualitätsprodukte zu Wettbewerbspreisen bereitzustellen, und freuen uns darauf, Ihr langfristiger Partner in China zu sein.

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Als professioneller Hersteller und Lieferant in China haben wir unsere eigene Fabrik. Unabhängig davon, ob Sie maßgeschneiderte Dienste benötigen, um die spezifischen Bedürfnisse Ihrer Region zu erfüllen oder erweiterte und langlebige Tantalcarbid-Beschichtung in China hergestellt zu werden, können Sie uns eine Nachricht hinterlassen.

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Tantalcarbid (TaC)-Beschichtung auf einem mikroskopischen Querschnitt:

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