Tantalcarbid-Beschichtung

Mit seiner Hochtemperaturbeständigkeit, der chemischen Trägheit und der hervorragenden Leistung sind Vetek Semiconductor's TAC -beschichtete Chucks für Halbleiteröfen ausgelegt. Wir glauben, dass unsere Produkte Ihnen fortschrittliche Technologie- und Qualitätsproduktlösungen bringen können.

Das TAC -Beschichtungsröhrchen des Vetek Semiconductor ist eine Schlüsselkomponente für das erfolgreiche Wachstum von Siliziumcarbid -Einkristallen. Mit seiner Hochtemperaturbeständigkeit, chemischen Trägheit und hervorragender Leistung sorgt die Produktion hochwertiger Kristalle mit konsistenten Ergebnissen. Vertrauen Sie unseren innovativen Lösungen, um Ihren PVT -Methode zu verbessern. SIC -Kristallwachstumsprozess und hervorragende Ergebnisse.

Die TAC-Beschichtung wird derzeit hauptsächlich in Prozessen wie ein Einkristallwachstum von Siliziumkarbid (PVT-Methode), epitaxiale Festplatte (einschließlich Siliziumkarbid-Epitaxie, LED-Epitaxie) usw. verwendet. In Kombination mit der guten Langzeitstabilität von TAC-Beschichtungsplatten. Wir freuen uns darauf, dass Sie unser langfristiger Partner werden.

Gan on SIC EPI SUPPORTOR spielt eine wichtige Rolle bei der Halbleiterverarbeitung durch seine hervorragende thermische Leitfähigkeit, Hochtemperaturverarbeitungsfähigkeit und chemische Stabilität und sorgt für die hohe Effizienz und materielle Qualität des GaN -epitaxialen Wachstumsprozesses. Vetek Semiconductor ist ein professioneller Hersteller von China von Gan bei SIC EPI SUPTORTOR. Wir freuen uns auf Ihre weitere Beratung aufrichtig.

Der CVD -TAC -Beschichtenträger ist hauptsächlich für den epitaxialen Prozess der Semiconductor -Herstellung konzipiert. Ultrahoch Schmelzpunkt des CVD-TAC-Beschichtungsträgers, ausgezeichnete Korrosionsbeständigkeit und herausragende thermische Stabilität bestimmen die Unentbehrlichkeit dieses Produkts im Halbleiter-Epitaxialprozess. Begrüßen Sie Ihre weitere Anfrage.

Vetek Semiconductors TAC Coated Graphit Susceceptor verwendet eine chemische Dampfabscheidung (CVD), um eine tantale Carbidbeschichtung auf der Oberfläche von Graphitenteilen herzustellen. Dieser Prozess ist am reifsten und hat die besten Beschichtungseigenschaften. Der mit TAC beschichtete Graphit -Anfänger kann die Lebensdauer von Graphitkomponenten verlängern, die Migration von Graphitverunreinigungen hemmen und die Qualität der Epitaxie sicherstellen. Wir freuen uns auf Ihre Anfrage.